MATERIAL FOR CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET

• Main Authors: KUMAGAI SATOSHI, OHTO MICHIAKI, SAKURAI AKIRA
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 29.10.2015
• Subjects: ALLOYS; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS ANDNON-FERROUS ALLOYS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS

A material for a cylindrical sputtering target comprising copper or a copper alloy, wherein, when a special grain boundary length ratio LσN/LN in the crystalline structure of the outer peripheral surface is defined by a unit total grain boundary length LN per unit area of 1 mm2 and a unit total special grain boundary length LσN per unit area of 1 mm2 as measured by EBSD, the average value of the special grain boundary length ratio LσN/LN measured in the outer peripheral surfaces of both ends in the axial (O) direction and in the outer peripheral surface of the middle is 0.5 or greater, the measured values are all within a range of ±20% of the average value of the special grain boundary length ratio LσN/LN, the total of the impure element contents for Si and C is 10 ppm by mass or less, and the O content is 50 ppm by mass or less. 　L'invention concerne un matériau pour une cible de pulvérisation cathodique cylindrique comprenant du cuivre ou un alliage de cuivre, dans lequel, lorsqu'un rapport de longueurs de joints de grains spéciaux LσN/LN dans la structure cristalline de la surface périphérique extérieure est défini par une longueur de joints de grains totale unitaire LN par unité de surface de 1 mm2 et une longueur de joints de grains spéciaux totale unitaire LσN par unité de surface de 1 mm2 tel que mesuré par EBSD, la valeur moyenne du rapport des longueurs de joints de grains spéciaux LσN/LN mesurées dans les surfaces périphériques extérieures des deux extrémités dans la direction axiale (O) direction et dans la surface périphérique externe du milieu est égale ou supérieure à 0,5, les valeurs mesurées sont toutes situées à l'intérieur d'une plage de ± 20 % de la valeur moyenne du rapport des longueurs de joints de grains spéciaux LσN/LN, le total des teneurs en éléments d'impureté Si et C est de 10 ppm en masse ou moins, et la teneur en O est de 50 ppm en masse ou moins. 　銅又は銅合金からなる円筒型スパッタリングターゲット用素材であって、外周面の結晶組織において、ＥＢＳＤ法によって測定した単位面積１ｍｍ２当たりの単位全粒界長さＬＮと単位面積１ｍｍ２当たりの単位全特殊粒界長さＬσＮとによって特殊粒界長さ比率ＬσＮ／ＬＮを定義した場合に、軸線Ｏ方向の両端部の外周面と中央部の外周面で測定された前記特殊粒界長さ比率ＬσＮ／ＬＮの平均値が０．５以上とされるとともに、それぞれの測定値が、前記特殊粒界長さ比率ＬσＮ／ＬＮの平均値に対して±２０％の範囲内とされており、さらに、不純物元素であるＳｉとＣとの含有量の総計が１０質量ｐｐｍ以下、Ｏ含有量が５０質量ｐｐｍ以下、とされている。