LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: MERRY, ROEL, JOHANNES, ELISABETH, MERKX, LEON, LEONARDUS, FRANCISCUS, DE JONGH, ROBERTUS, JOHANNES, MARINUS
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 22.10.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A lithographic apparatus comprising a reflector (15) to redirect a radiation beam e.g. an EUV beam. The position of the reflector is controlled using a controller and a positioning system. The positioning system comprises a non-compensating actuator device (300) and a compensating actuator device (200) to compensate for parasitic forces of the non-compensating actuator device. The positioning system and controller can provide a more accurate position of the reflector, reduce deformation of the reflector and reduce the magnitude of forces transmitting through the reflector. L'invention concerne un appareil lithographique comprenant un réflecteur (15) destiné à rediriger un faisceau de rayonnement, par exemple un faisceau EUV. La position du réflecteur est commandée à l'aide d'une unité de commande et d'un système de positionnement. Le système de positionnement comprend un dispositif actionneur sans compensation (300) et un dispositif actionneur à compensation (200) destiné à compenser les forces parasites du dispositif actionneur sans compensation. Le système de positionnement et l'unité de commande permettent de fournir une position plus précise du réflecteur, de réduire la déformation du réflecteur et de réduire l'intensité des forces transmises par l'intermédiaire du réflecteur.