GAS BARRIER FILM

• Main Authors: UEBAYASHI, HIROYUKI, SATAKE, HIKARU, TOKUNAGA, KODAI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 30.07.2015
• Subjects: ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G; CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS,e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES,DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; CONVEYING; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL; LAYERED PRODUCTS; LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT ORNON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; PACKAGES; PACKAGING ELEMENTS; PACKING; PERFORMING OPERATIONS; STORING; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; TRANSPORTING; WORKING-UP

The purpose of the present invention is to provide a gas barrier film having excellent gas barrier characteristics. This gas barrier film includes, on at least one surface of a polymer base material, a gas barrier layer in which a first layer including zinc oxide and silicon dioxide and a second layer including a silicon compound are arranged in contact with one another in this order from the polymer base material, wherein the binding energy of the Si 2p orbit at the interface between the first layer and the second layer as measured by X-ray photoelectron spectroscopy is greater than the binding energy of the Si 2p orbit in the first layer and is smaller than the binding energy of the Si 2p orbit in the second layer. La présente invention a pour objet de réaliser un film barrière contre les gaz qui possède d'excellentes caractéristiques de barrière contre les gaz. Le film barrière contre les gaz selon l'invention comprend, sur au moins une surface d'un matériau de base polymère, une couche barrière contre les gaz dans laquelle une première couche contenant de l'oxyde de zinc et du dioxyde de silicium et une deuxième couche contenant un composé de silicium sont disposées en contact l'une avec l'autre dans cet ordre à partir du matériau de base polymère. L'énergie de liaison de l'orbitale 2p du Si au niveau de l'interface entre la première couche et la deuxième couche, mesurée par spectroscopie de photoélectrons induits par rayons X, est supérieure à l'énergie de liaison de l'orbitale 2p du Si dans la première couche et inférieure à l'énergie de liaison de l'orbitale 2p du Si dans la deuxième couche. 　本発明は、高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。本発明のガスバリアフィルムは、高分子基材の少なくとも片面に、酸化亜鉛と二酸化ケイ素とを含む第１層とケイ素化合物を含む第２層とを高分子基材からこの順に接して配されたガスバリア層を有し、Ｘ線光電子分光法により測定される第１層と第２層との界面におけるＳｉ２ｐ軌道の結合エネルギーが、第１層におけるＳｉ２ｐ軌道の結合エネルギーより大きく、かつ第２層におけるＳｉ２ｐ軌道の結合エネルギーより小さい。