PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE

• Main Authors: AMEMIYA TAKUMA, SUGIHARA KOICHI, ANDO TAKESHI, NAKAGAWA MIKIO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 18.06.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; FREQUENCY-CHANGING; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF

Provided are: a low-cost photosensitive resin composition which is able to be imparted with pattern formability with low light exposure amount, while having excellent sensitivity, long-term stability, solvent resistance and thermal weight loss rate, and which does not cause an increase in the number of synthesis steps; a method for producing a cured film; a cured film; a liquid crystal display device; and an organic EL display device. A photosensitive resin composition which contains (A) a polybenzoxazole precursor containing a repeating unit represented by general formula (1), (B) a photoacid generator, (C) a solvent, (D) a crosslinking agent and (E) a compound which has a group, wherein an acid group is protected by an acid-decomposable group, in each molecule. AA General formula (1) L'invention porte sur : une composition de résine photosensible à faible coût qui est configurée pour être révélée avec une aptitude à la formation de motif avec une faible quantité d'exposition à la lumière, tout en ayant d'excellentes sensibilité, stabilité à long terme, résistance aux solvants, et vitesse de perte de poids thermique, et qui ne provoque pas une augmentation du nombre d'étapes de synthèse ; un procédé de production d'un film durci ; un film durci ; un dispositif d'affichage à cristaux liquides ; et un dispositif d'affichage électroluminescent (EL) organique. La composition de résine photosensible contient (A) un précurseur de polybenzoxazole contenant une unité récurrente représentée par une formule générale (1), (B) un générateur de photo-acide, (C) un solvant, (D) un agent de réticulation et (E) un composé qui possède un groupe, dans lequel un groupe d'acide est protégé par un groupe décomposable par acide, dans chaque molécule. FIG. 0: AA%%%Formule générale (1) 低露光量でのパターン形成性の付与が可能であり、感度、経時安定性、耐溶剤性、および熱重量減少率優れ、かつ合成ステップ数が増加しない安価な感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ＥＬ表示装置の提供。（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）架橋剤、および（Ｅ）酸基が酸分解性基で保護された基を分子中に有する化合物を含有する感光性樹脂組成物。