LAMINATE, KIT FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR, AND RESIST COMPOSITION FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR

• Main Authors: KAMOCHI YOSHITAKA, IWAI YU, KOYAMA ICHIRO, MIZUTANI KAZUYOSHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.05.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Provided are: a laminate that can form a favorable organic semiconductor pattern; a kit for producing an organic semiconductor and that is for producing the laminate; and a resist composition that is for producing an organic semiconductor and that is used in the kit for producing an organic semiconductor. The laminate has an organic semiconductor film, a protective film on the organic semiconductor film, and a resist film on the protective film, the resist film comprising a photosensitive resin composition containing the belowmentioned (1) and/or (2): (1) a compound (A1) of which the main chain is broken down by means of light irradiation at wavelengths of 100-600 nm; and (2) an activating agent (B) that generates an active species by means of irradiation at wavelengths of 100-600 nm and a compound (A2) of which the main chain is broken down by means of the activating agent (B). La présente invention concerne : un stratifié qui peut former un motif semi-conducteur organique favorable ; un kit de production d'un semi-conducteur organique et qui sert à produire le stratifié ; et une composition de réserve qui sert à produire un semi-conducteur organique et qui est utilisée dans le kit de production d'un semi-conducteur organique. Le stratifié comporte un film organique semi-conducteur, un film de protection appliqué au film organique semi-conducteur et un film de réserve disposé sur le film de protection, le film de réserve comprenant une composition de résine photosensible contenant les éléments (1) et/ou (2) mentionnés ci-dessous : (1) un composé (A1) dont la chaîne principale est dissociée par soumission à un rayonnement de lumière à des longueurs d'onde de 100 à 600 nm ; et (2) un agent d'activation (B) qui génère une espèce active par soumission à un rayonnement à des longueurs d'onde de 100 à 600 nm et un composé (A2) dont la chaîne principale est dissociée au moyen de l'agent d'activation (B). 　良好な有機半導体パターンを形成可能な積層体、およびかかる積層体を製造するための、有機半導体製造用キット、ならびに、有機半導体製造用キットに用いる有機半導体製造用レジスト組成物の提供。　有機半導体膜と、上記有機半導体膜上の保護膜と、上記保護膜上のレジスト膜を有し、上記レジスト膜が、下記（１）および／または（２）を含む感光性樹脂組成物からなる、積層体； （１）波長１００～６００ｎｍの光照射により主鎖が分解する化合物（Ａ１）を含む； （２）波長１００～６００ｎｍの光照射により活性種を発生する活性剤（Ｂ）と、上記活性剤（Ｂ）により主鎖が分解する化合物（Ａ２）を含む。