LAMINATE, ORGANIC-SEMICONDUCTOR MANUFACTURING KIT, AND RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING ORGANIC SEMICONDUCTOR

• Main Authors: KAMOCHI YOSHITAKA, IWAI YU, KOYAMA ICHIRO, MIZUTANI KAZUYOSHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.05.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; LAYERED PRODUCTS; LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT ORNON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PERFORMING OPERATIONS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

This invention provides the following: a laminate that allows the formation of a good organic semiconductor pattern; an organic-semiconductor manufacturing kit for manufacturing said laminate; and a resist composition for manufacturing an organic semiconductor, said resist composition being used in the aforementioned organic-semiconductor manufacturing kit. This laminate comprises an organic semiconductor film, a protective film on top of said organic semiconductor film, and a resist film on top of said protective film. The resist film comprises a photosensitive resin composition that contains the following: a photoacid generator (A) that generates an organic acid having a pKa of −1 or lower; and a resin (B) that reacts with the acid generated by the photoacid generator such that the rate of solution of said resin with respect to a developer that contains an organic solvent decreases. La présente invention concerne : un stratifié qui permet la formation d'un bon modèle de semi-conducteur organique ; une trousse de fabrication de semi-conducteur organique pour fabriquer ledit stratifié ; et une composition de réserve pour fabriquer un semi-conducteur organique, ladite composition de réserve étant utilisée dans la trousse de fabrication de semi-conducteur organique mentionné ci-dessus. Ce stratifié comprend un film de semi-conducteur organique, un film de protection sur le dessus dudit film de semi-conducteur organique, et un film de réserve sur le dessus dudit film de protection. Le film de réserve comprend une composition de résine photosensible qui contient les éléments suivants : un générateur de photoacide (A) qui génère un acide organique ayant un pKa de −1 ou moins ; et une résine (B) qui réagit avec l'acide généré par le générateur de photoacide de telle sorte que le taux de solution de ladite résine par rapport à un agent de développement qui contient un solvant organique diminue. 　良好な有機半導体パターンを形成可能な積層体、およびかかる積層体を製造するための、有機半導体製造用キット、ならびに、有機半導体製造用キットに用いる有機半導体製造用レジスト組成物の提供。　有機半導体膜と、有機半導体膜上の保護膜と、保護膜上のレジスト膜を有し、レジスト膜が、発生酸のｐＫａが－１以下の有機酸を発生する光酸発生剤（Ａ）と、光酸発生剤から生じる酸に反応して有機溶剤を含む現像液に対する溶解速度が減少する樹脂（Ｂ）を含む感光性樹脂組成物からなる積層体。