EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

• Main Authors: WAKABAYASHI OSAMU, ABE TAMOTSU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 05.03.2015
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; X-RAY TECHNIQUE

This extreme ultraviolet light generation apparatus may be provided with: a chamber; a target supply unit that is configured to output a target to a predetermined region in the chamber; a light collecting optical system that is configured to collect pulsed laser light to the predetermined region; and a plurality of scattered light detectors, each of which is configured to detect scattered light of the pulsed laser light, said scattered light being generated due to the target. The apparatus may be also provided with: an optical path changing device that is configured to change an optical path of the pulsed laser light; and an optical path control unit that is configured to control the optical path changing device on the basis of detection results obtained from the scattered light detectors. L'invention concerne un appareil de génération de lumière ultraviolette extrême, pouvant comprendre : une chambre; une unité d'alimentation de cible, configurée pour sortir une cible sur une région prédéterminée dans la chambre; un système optique de recueil de lumière, configuré pour recueillir une lumière laser pulsée sur la région prédéterminée; et plusieurs détecteurs de lumière diffusée, chacun étant configuré pour détecter la lumière diffusée de la lumière laser pulsée, ladite lumière diffusée étant générée du fait de la cible. L'appareil peut également comprendre : un dispositif de changement de chemin optique, configuré pour changer un chemin optique de la lumière laser pulsée; et une unité de commande de chemin optique, configurée pour commander le dispositif de changement de chemin optique en se basant sur les résultats de détection obtenus par les détecteurs de lumière diffusée.