ELECTROCHROMIC DEVICES HAVING IMPROVED STRUCTURE FOR REDUCING CURRENT LEAKAGE ACROSS PORTIONS OF THE LOWER TRANSPARENT CONDUCTOR LAYER
One object of the present invention is to provide an electrochromic device (40, 50, 60) having improved insulating film structure to reduce electrical leakage. The improved structure includes a lower conductive layer (45a b 55a c, 65a b), upper transparent conductive layer, an electrochromic electro...
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Format | Patent |
Language | English French |
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29.01.2015
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Summary: | One object of the present invention is to provide an electrochromic device (40, 50, 60) having improved insulating film structure to reduce electrical leakage. The improved structure includes a lower conductive layer (45a b 55a c, 65a b), upper transparent conductive layer, an electrochromic electrode layer, a counter electrode layer (44, 54, 63), and at least one ion conductor layer sandwiched between the electrochromic electrode layer and the counter electrode layer. The lower transport conductive layer is scribed and the gap formed from the scribing (P1) is filled with the layer(s) formed above the lower conductive layer, such as the electrode layer formed directly above the lower conductive layer. The effective linewidth of the scribe is greater than the migration length of the lithium ions intercalated into the electrode layer, such that the electrode materials occupying the gap do not convert the electrode layer into an electrically conductive region.
Un objet de la présente invention concerne un dispositif électrochromique (40, 50, 60) possédant une structure améliorée de film isolant pour réduire la perte électrique. La structure améliorée comprend une couche conductrice inférieure (45a b 55a c, 65a b), une couche conductrice transparente supérieure, une couche d'électrode électrochromique, une couche de contre-électrode (44, 54, 63), et au moins une couche conductrice d'ions intercalée entre la couche d'électrode électrochromique et la couche de contre-électrode. La couche conductrice de transport inférieure est gravée et l'écartement formé par la gravure (P1) est rempli par la ou les couche(s) formée(s) au-dessus de la couche conductrice inférieure, telle que la couche d'électrode formée directement au-dessus de la couche conductrice inférieure. La largeur de ligne effective de la gravure est supérieure à la longueur de migration des ions lithium intercalés dans la couche d'électrode, de telle sorte que les matériaux d'électrode occupant l'écartement ne transforment pas la couche d'électrode en une région électriquement conductrice. |
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Bibliography: | Application Number: WO2014US47955 |