OPTICAL FILM THICKNESS MEASUREMENT DEVICE, THIN FILM FORMING DEVICE, AND METHOD FOR MEASURING FILM THICKNESS

• Main Authors: OTAKI, YOSHIYUKI, SAI, KYOKUYO, HINATA, YOHEI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 15.01.2015
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; METALLURGY; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TESTING

Provided is a reflective optical-film-thickness-measurement device attached to a substrate holder of a rotary optical-thin-film-forming device, the optical-film-thickness-measurement device measuring the thickness of the optical thin film on a rotating substrate and not being readily affected by variation in angle of the rotating substrate. The present invention is provided with: a projection-side lens unit provided with a projection part (43) for projecting measurement light towards a rotating substrate (S), and projection-side lenses (51, 56) disposed between the substrate (S) and the projection part (43), the projection side lenses (51, 56) receiving the measurement light emitted from the projection part (43) and guiding the measurement light to the substrate (S); and a reception-side lens unit provided with a light reception part (44) for receiving light reflected by the substrate (S) from the measurement light, and reception-side lenses (52, 57) disposed between the substrate (S) and the reception part (44), the reception side lenses (52, 57) receiving the light reflected by the substrate (S) and guiding this reflected light to the reception unit (44). At least some of the optical path of the reception-side lens unit and the optical path of the projection-side lens unit are separate, and the active area of the projection-side lens unit is less than the active area of the reception-side lens unit. 　La présente invention concerne un dispositif de mesure de l'épaisseur d'un film optique réfléchissant relié à un support de substrat d'un dispositif de formation de film mince optique rotatif, le dispositif de mesure de l'épaisseur d'un film optique mesurant l'épaisseur du film mince optique sur un substrat rotatif et n'étant pas facilement affecté par la variation angulaire du substrat rotatif. La présente invention concerne : une unité de lentille du côté projection dotée d'une partie projection (43) permettant de projeter une lumière de mesure vers un substrat rotatif (S), et des lentilles du côté projection (51, 56) disposées entre le substrat (S) et la partie projection (43), les lentilles du côté projection (51, 56) recevant la lumière de mesure émise par la partie projection (43) et guidant la lumière de mesure vers le substrat (S) ; et une unité de lentille du côté réception dotée d'une partie réception de lumière (44) permettant de recevoir une lumière réfléchie par le substrat (S) à partir de la lumière de mesure, et des lentilles du côté réception (52, 57) disposées entre le substrat (S) et la partie réception (44), les lentilles du côté réception (52, 57) recevant la lumière réfléchie par le substrat (S) et guidant cette lumière réfléchie vers l'unité de réception (44). Au moins une partie du trajet optique de l'unité de lentille du côté réception et une partie du trajet optique de l'unité de lentille du côté projection sont séparées, et la zone active de l'unité de lentille du côté projection est inférieure à la zone active de l'unité de lentille du côté réception.