ARRAY SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Provided are: an array substrate which can be easily formed, and which is provided with an insulation film, the dielectric properties of which can be controlled; a liquid crystal display element provided with said array substrate; and a radiation-sensitive resin composition for forming said insulati...

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Main Authors MAKIUCHI, NAOYUKI, SUZUKI, YASUNOBU
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 09.10.2014
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Summary:Provided are: an array substrate which can be easily formed, and which is provided with an insulation film, the dielectric properties of which can be controlled; a liquid crystal display element provided with said array substrate; and a radiation-sensitive resin composition for forming said insulation film. An array substrate (1) is produced by forming an insulation film (12) upon a substrate (4) having an active element (8) formed thereon, and disposing, upon the insulation film (12), a common electrode (14), an interlayer insulation film (33), and a comb-shaped pixel electrode (9). A radiation-sensitive resin composition is used to form the interlayer insulation film (33), said radiation-sensitive resin composition including: [X] an alkali-soluble resin; [Y] oxide particles of at least one metal selected from the group consisting of aluminium, zirconium, titanium, zinc, indium, tin, antimony, and cerium; [Z] a multifunctional acrylate; [V] a chain transfer agent; and [W] a radiation-sensitive polymerization initiator. The array substrate (1) is used to configure a liquid crystal display element. L'invention concerne : un substrat de matrice qui peut être facilement formé, et qui est pourvu d'un film d'isolation susceptible de commander les propriétés diélectriques ; un élément d'affichage à cristaux liquides comportant ledit substrat de matrice ; et une composition de résine sensible au rayonnement pour former ledit film d'isolation. Le substrat de matrice (1) est produit par la formation du film d'isolation (12) sur un substrat (4) sur lequel un élément actif (8) est formé, et la disposition, sur le film d'isolation (12), d'une électrode commune (14), d'un film d'isolation de couche intermédiaire (33), et d'une électrode de pixel en forme de peigne (9). Une composition de résine sensible au rayonnement est utilisée pour former le film d'isolation de couche intermédiaire (33), ladite composition de résine sensible au rayonnement comprenant : [X] une résine soluble dans les alkalis ; [Y] des particules d'oxyde d'au moins un métal choisi dans le groupe constitué d'aluminium, zirconium, titane, zinc, indium, étain, antimoine et cérium ; [Z] un acrylate multifonctionnel ; [V] un agent de transfert de chaîne ; et [W] un initiateur de polymérisation sensible au rayonnement. Le substrat de matrice (1) est utilisé pour configurer un élément d'affichage à cristaux liquides.
Bibliography:Application Number: WO2014JP59758