LAMINATED COATING FILM HAVING SUPERIOR WEAR RESISTANCE

• Main Authors: YAMAMOTO KENJI, ABE MAIKO, HOSOKAWA MAMORU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.10.2014
• Subjects: BORING; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TRANSPORTING; TURNING

The present invention is a laminated coating film such that at least one of each of the belowmentioned coating film (Q) and coating film (R) are laminated in alternation on a substrate. [Coating film Q] At least one coating film selected from the group consisting of: a coating film having a compositional formula of Ti1-a-b-cBaCbNc and satisfying the atom ratios of each element being 0.2 ≤ a ≤ 0.7, 0 ≤ b ≤ 0.35, and 0 ≤ c ≤ 0.35; a coating film having a compositional formula of Si1-d-eCdNe and satisfying the atom ratios of each element being 0.2 ≤ d ≤ 0.50 and 0 ≤ e ≤ 0.3; and a coating film having a compositional formula of B1-f-gCfNg and satisfying the atom ratios of each element being 0.03 ≤ f ≤ 0.25 and 0 ≤ g ≤ 0.5. [Coating film R] A coating film having a compositional formula of L(BxCyN1-x-y) (where L is at least one element selected from the group consisting of W, Mo, and V) and satisfying the atom ratios of each element being 0 ≤ x ≤ 0.15 and 0 ≤ y ≤ 0.5. La présente invention concerne un film de revêtement stratifié tel qu'au moins l'un de chacun parmi le film de revêtement mentionné ci-après (Q) et le film de revêtement (R) sont stratifiés de façon alternée sur un substrat. [Film de revêtement Q] Au moins un film de revêtement choisi dans le groupe consistant en : un film de revêtement ayant une formule de composition de Ti1-a-b-cBaCbNc et satisfaisant les rapports atomiques de chaque élément qui sont 0,2 ≤ a ≤ 0,7, 0 ≤ b ≤ 0,35 et 0 ≤ c ≤ 0,35 ; un film de revêtement ayant une formule de composition de Si1-d-eCdNe et satisfaisant les rapports atomiques de chaque élément qui sont 0,2 ≤ d ≤ 0,50 et 0 ≤ e ≤ 0,3 ; et un film de revêtement ayant une formule de composition de B1-f-gCfNg et satisfaisant les rapports atomiques de chaque élément qui sont 0,03 ≤ f ≤ 0,25 et 0 ≤ g ≤ 0,5. [Film de revêtement R] Un film de revêtement ayant une formule de composition de L(BxCyN1-x-y) (où L est au moins un élément choisi dans le groupe consistant en W, Mo et V) et satisfaisant les rapports atomiques de chaque élément qui sont 0 ≤ x ≤ 0,15 et 0 ≤ y ≤ 0,5.