MAGNIFYING IMAGING OPTICAL UNIT AND EUV MASK INSPECTION SYSTEM WITH SUCH AN IMAGING OPTICAL UNIT

• Main Author: MANN, HANS-JÜRGEN
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 18.09.2014
• Subjects: OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS

A magnifying imaging optical unit (7) serves for inspecting lithography masks which are used in EUV projection exposure. The imaging optical unit (7) comprises at least two mirrors (M1 to M4) which can be displaced relative to one another for changing a magnification value. According to a further aspect, a magnifying imaging optical unit (7) comprises at least one mirror (M1 to M4) and a magnification value, which can be changed by displacement of at least two mirrors (M1 to M4) relative to one another. Here, the magnification value can be changed between a minimum magnification value, which is greater than 100, and a maximum magnification value, which is greater than 200. An imaging optical unit emerges, which can be adapted to, in particular, mask structures with different sizes. La présente invention porte sur une unité (7) optique d'imagerie grossissante qui sert à l'inspection de masques de lithographie qui sont utilisés dans une exposition par projection en ultraviolet extrême (UVE). L'unité (7) optique d'imagerie comprend au moins deux miroirs (M1 à M4) qui peuvent être déplacés l'un par rapport à l'autre pour changer une valeur de grossissement. Selon un autre aspect, une unité (7) optique d'imagerie grossissante comprend au moins un miroir (M1 à M4) et une valeur de grossissement, qui peut être changée par déplacement d'au moins deux miroirs (M1 à M4) l'un par rapport à l'autre. Présentement, la valeur de grossissement peut être changée entre une valeur de grossissement minimale qui est supérieure à 100, et une valeur de grossissement de valeur maximale qui est supérieure à 200. Une unité optique d'imagerie émerge, qui peut être conçue pour, en particulier, des structures de masque ayant différentes dimensions.