FILM FORMATION APPARATUS

• Main Author: IIZUKA YOJI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 12.06.2014
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

This film formation apparatus is provided with: a processing container; an exhaust device; an inner-side support part; an outer-side support part; at least one placement table; a gas supply part; and a heater part. The inner-side support part has a cylindrical shape, and is provided capable of rotating about the axis inside the processing container. The outer-side support part has a cylindrical shape, is provided coaxially with the inner-side support part inside the processing container, and is provided capable of rotating about the axis. The placement table has an inner-side edge supported by the inner-side support part, and an outer-side edge supported by the outer-side support part. Also, at least one placement table provides a plurality of substrate placement regions in a circular region centered on the axis. The heater part is disposed secured between the inner-side support part and the outer-side support part, and below at least one placement table. La présente invention concerne un appareil de formation de film qui est pourvu : d'un contenant de traitement ; d'un dispositif d'échappement ; d'une partie de support côté intérieur ; d'une partie de support côté extérieur ; d'au moins une table de positionnement ; d'une partie d'alimentation en gaz ; et d'une partie chauffante. La partie de support côté intérieur présente une forme cylindrique, et est prévue pour être capable de tourner autour l'axe à l'intérieur du contenant de traitement. La partie de support côté extérieur présente une forme cylindrique, est prévue de façon coaxiale conjointement avec la partie de support côté intérieur à l'intérieur du contenant de traitement, et est prévue pour être capable de tourner autour l'axe. La table de positionnement comporte un bord côté intérieur supporté par la partie de support côté intérieur, et un bord côté extérieur supporté par la partie de support côté extérieur. De même, au moins une table de positionnement fournit une pluralité de régions de positionnement de substrat dans une région circulaire centrée sur l'axe. La partie chauffante est disposée pour être fixée entre la partie de support côté intérieur et la partie de support côté extérieur, et en dessous d'au moins une table de positionnement.