METHOD FOR MEASURING OPTICAL FILM THICKNESS, SYSTEM FOR MEASURING OPTICAL FILM THICKNESS, AND PROGRAM FOR MEASURING OPTICAL FILM THICKNESS

• Main Authors: IZUMIYA, NAOKI, KASHIWAZAKI, OSAMU, SEKIYA, TADANOBU, YOSHIHARA, YUKA, ATARASHI, YUICHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 24.04.2014
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; PHYSICS; TESTING

The purpose of the present invention is to measure the optical film thickness of an interference film through reflectometric interference spectroscopy, and in the event that there is variation in the optical film thickness of an interference film, to measure the optical film thickness of the portion where there is a variation in the optical film thickness. The optical film thickness of an interference film in a laminate obtained by laminating an interference film on a substrate is measured through reflectometric interference spectroscopy, doing so while taking note of the tendency of the spectral distribution of spectral reflectivity (or the amount of variation thereof) to shift towards the long-wavelength end in the order curve b1->curve b2->curve b3->curve b4, and for the number of peaks thereof to increase in association with an increase in the optical film thickness of the interference film. For a number of different optical film thicknesses, the relationship between a predetermined characteristic value of the curve of spectral reflectivity (the amount of variation) for a laminate in which the optical film thickness of the interference film is known and the optical film thickness in question is created in advance; a predetermined characteristic value of the curve of spectral reflectivity (the amount of variation) in a laminated to be measured through reflectometric interference spectroscopy is plugged into the relationship; and the optical film thickness of the interference film to be measured is derived by identifying the optical film thickness that most closely approximates the characteristic value. L'objet de la présente invention est de mesurer l'épaisseur de pellicule optique d'une pellicule d'interférence par spectroscopie à interférence réflectométrique et dans le cas où il y a une variation de l'épaisseur de pellicule optique d'une pellicule d'interférence, de mesurer l'épaisseur de pellicule optique de la partie où il y a une variation de l'épaisseur de pellicule optique. L'épaisseur de pellicule optique d'une pellicule d'interférence dans un stratifié obtenu en stratifiant une pellicule d'interférence sur un substrat est mesurée par spectroscopie à interférence réflectométrique, tout en prenant note de la tendance de la distribution spectrale de la réflectivité spectrale (ou l'ampleur de sa variation) pour décaler vers l'extrémité de longueur d'onde longue dans l'ordre courbe b1->courbe b2->courbe b3->courbe b4, et pour le nombre de ses pics à accroître en association avec un accroissement de l'épaisseur de la pellicule optique de la pellicule d'interférence. Pour un certain nombre d'épaisseurs de pellicule optique différentes, la relation entre une valeur caractéristique préétablie de la courbe de réflectivité spectrale (l'ampleur de variation) pour un stratifié dans lequel l'épaisseur de pellicule optique de la pellicule d'interférence est connue et l'épaisseur de pellicule optique en question est créée à l'avance ; une valeur caractéristique préétablie de la courbe de réflectivité spectrale (l'ampleur de variation) dans un stratifié à mesurer par spectroscopie à interférence réflectométrique est introduite dans la relation ; et l'épaisseur de pellicule optique de la pellicule d'interférence à mesurer est déduite en identifiant l'épaisseur de pellicule optique qui s'approche au plus près de la valeur caractéristique.