EXPOSURE DEVICE AND IMAGE FORMING APPARATUS
An exposure device includes an element array that includes a plurality of organic electroluminescent elements and a lens array optical system that uses a lens array that includes a plurality of lenses, which forms images of light from the element array on a photosensitive body. In the exposure devic...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
10.04.2014
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Summary: | An exposure device includes an element array that includes a plurality of organic electroluminescent elements and a lens array optical system that uses a lens array that includes a plurality of lenses, which forms images of light from the element array on a photosensitive body. In the exposure device, each electroluminescent element has a first electrode disposed on a light emitting side, a second electrode disposed on a light reflecting side, and a light emitting layer. In the exposure device, in each organic electroluminescent element, an optical path length L1 between a light emitting position of the light emitting layer and the second electrode is an optical path length within ±10% of an optical path length at which variation in light amount during light exposure is minimized.
L'invention concerne un dispositif d'exposition comprenant une matrice d'éléments qui comprend une pluralité d'éléments électroluminescents organiques et un système optique à matrice de lentilles qui utilise une matrice de lentilles comprenant une pluralité de lentilles, qui forme des images d'une lumière provenant de la matrice d'éléments sur un corps photosensible. Dans le dispositif d'exposition, chaque élément électroluminescent comprend une première électrode disposée sur un côté d'émission lumineuse, une deuxième électrode disposée sur un côté de réflexion lumineuse, et une couche d'émission lumineuse. Dans le dispositif d'exposition, dans chaque élément électroluminescent, une longueur L1 de chemin optique entre une position d'émission lumineuse de la couche d'émission lumineuse et la deuxième électrode est une longueur de chemin optique ne s'écartant pas au-delà de ±10% d'une longueur de chemin optique pour laquelle la variation de la quantité de lumière pendant une exposition à la lumière est minimisée. |
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Bibliography: | Application Number: WO2013JP77015 |