POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, THIN FILM TRANSISTOR, AND COMPOUND

• Main Authors: IDE MASAHITO, TAHARA KOMEI, MANABE TAKAO, INARI HIROFUMI, KITAJIMA AKI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 09.01.2014
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The purpose of the present invention is to provide a positive photosensitive composition which has excellent patterning properties and provides a cured product (a thin film) that has excellent electrical insulation reliability. A first positive photosensitive composition of the present invention is characterized by containing (A) a compound which contains an alkenyl group or an SiH group in each molecule and has a structure that is decomposed in the presence of an acid and generates an acidic group or a hydroxyl group, (B) a compound which contains an SiH group or an alkenyl group in each molecule, (C) a hydrosilylation catalyst and (D) a photoacid generator. La présente invention a pour but de proposer une composition photosensible positive qui a d'excellentes propriétés de formation de motif et fournit un produit durci (une couche mince) qui a une excellente fiabilité d'isolation électrique. Une première composition photosensible positive de la présente invention est caractérisée en ce qu'elle contient (A) un composé qui contient un groupe alcényle ou un groupe SiH dans chaque molécule et a une structure qui est décomposée en présence d'un acide et génère un groupe acide ou un groupe hydroxyle, (B) un composé qui contient un groupe SiH ou un groupe alcényle dans chaque molécule, (C) un catalyseur d'hydrosilylation et (D) un générateur de photoacide.