METHOD FOR PRODUCING INDIUM OXIDE-CONTAINING LAYERS
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Flüssigphasen-Verfahren zur Herstellung Indiumoxid-haltiger Schichten, bei dem eine Zusammensetzung enthaltend mindestens ein Indiumoxoalkoxid der generischen Formel MxOy(OR)z[O(R'O)eH]aXbYc[R"OH]d mit x = 3 - 25, y = 1 - 10, z = 3 - 50, a = 0 - 25, b...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
13.02.2014
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Summary: | Die vorliegende Erfindung betrifft ein Flüssigphasen-Verfahren zur Herstellung Indiumoxid-haltiger Schichten, bei dem eine Zusammensetzung enthaltend mindestens ein Indiumoxoalkoxid der generischen Formel MxOy(OR)z[O(R'O)eH]aXbYc[R"OH]d mit x = 3 - 25, y = 1 - 10, z = 3 - 50, a = 0 - 25, b = 0 - 20, c = 1 - 20, d = 0 - 25, e = 0, 1, M = In, R, R', R" = organischer Rest, X = F, Cl, Br, I, und Y = -NO3, -NO2, wobei b + c = 1 - 20 ist und mindestens ein Lösemittel auf ein Substrat aufgebracht, ggf. getrocknet, und in eine Indiumoxid-haltige Schicht konvertiert wird, die Indiumoxoalkoxide der genannten generischen Formel, sie enthaltende Beschichtungszusammensetzungen, die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren herstellbaren Schichten und ihre Verwendung.
The present invention relates to a fluid phase method for producing indium oxide-containing layers, in which a composition comprising at least one indium oxo-alkoxide of the generic formula MxOy(OR)z[O(R'O)eH]aXbYc[R"OH]d with x = 3 - 25, y = 1 - 10, z = 3 - 50, a = 0 - 25, b = 0 - 20, c = 1 - 20, d = 0 - 25, e = 0, 1, M = In, R, R', R" = organic remainder, X = F, Cl, Br, I, and Y = -NO3, -NO2, where b + c is = 1 - 20 and at least one solvent is applied to a substrate, optionally dried, and converted into an indium oxide-containing layer, to the indium oxo-alkoxides of the indicated generic formula, to coating compositions comprising said indium oxo-alkoxides, to layers that can be produced by means of the method according to the invention, and to the use of said layers.
L'invention concerne un procédé en phase liquide pour la fabrication de couches contenant de l'oxyde d'indium, pour lequel une composition contenant au moins un oxoalcoxyde d'indium de la formule générique MxOy(OR)z[O(R'O)eH]aXbYc[R"OH]d, avec x = 3 - 25, y = 1 - 10, z = 3 - 50, a = 0 - 25, b = 0 - 20, c = 1 - 20, d = 0 - 25, e = 0, 1, M = In, R, R', R" = radicaux organiques, X = F, Cl, Br, I, et Y = -NO3, -NO2. b + c = 1 - 20; et au moins un solvant est déposé sur un substrat, séché le cas échéant et converti en une couche contenant de l'oxyde d'indium. L'invention concerne aussi les oxoalcoxydes d'indium de la formule générique citée, les compositions de revêtement qui les contiennent, les couches pouvant être produites par le procédé selon l'invention et leur utilisation. |
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Bibliography: | Application Number: WO2013EP61452 |