INFRARED RADIATION ELEMENT

An infrared radiation element relating to the present invention is provided with: a substrate having one surface in the thickness direction; an opening that penetrates the substrate in the thickness direction; a first insulating layer disposed on the one surface of the substrate to cover the opening...

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Main Authors NAGATANI, YOSHIHARU, KIRIHARA, MASAO, MATSUNAMI, HIROTAKA, TSUJI, KOJI, YOSHIHARA, TAKAAKI, UEDA, MITSUHIKO
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 12.12.2013
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Summary:An infrared radiation element relating to the present invention is provided with: a substrate having one surface in the thickness direction; an opening that penetrates the substrate in the thickness direction; a first insulating layer disposed on the one surface of the substrate to cover the opening; a heat generating material layer, which is disposed on the first insulating layer such that the heat generating material layer is positioned inside of the opening within a reference plane parallel to the one surface; a second insulating layer, which is disposed on the first insulating layer such that the heat generating material layer is covered with the second insulating layer; and a current-carrying section, which is disposed on the second insulating layer, and which is electrically connected to the heat generating material layer. The opening has a shape having corners within the reference plane parallel to the one surface. The current-carrying section has a reinforcing portion that overlaps the corners of the opening in the thickness direction. Un élément à rayonnement infrarouge selon la présente invention comporte : un substrat ayant une surface dans la direction d'épaisseur ; une ouverture qui pénètre le substrat dans la direction d'épaisseur ; une première couche isolante disposée sur la première surface du substrat pour recouvrir l'ouverture ; une couche de matière de génération de chaleur, qui est disposée sur la première couche isolante de telle sorte que la couche de matière de génération de chaleur est positionnée à l'intérieur de l'ouverture dans un plan de référence parallèle à la première surface ; une seconde couche isolante, qui est disposée sur la première couche isolante de telle sorte que la couche de matière de génération de chaleur soit recouverte de la seconde couche isolante ; et une section porteuse de courant, qui est disposée sur la seconde couche isolante, et qui est électriquement connectée à la couche de matière de génération de chaleur. L'ouverture a une forme ayant des coins à l'intérieur du plan de référence parallèle à la première surface. La section porteuse de courant a une partie de renforcement qui recouvre les coins de l'ouverture dans la direction d'épaisseur.
Bibliography:Application Number: WO2013JP01624