SOURCE REAGENT-BASED DELIVERY OF FLUID WITH HIGH MATERIAL FLUX FOR BATCH DEPOSITION

• Main Authors: CHEON, SEBUM, NUALPHAITO, DONN, K, HENDRIX, BRYAN, C, BARTOSH, KYLE, BATTLE, SCOTT, L, CLEARY, JOHN, M, GREGG, JOHN, N
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 05.12.2013
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Systems, reagent support trays, particle suppression devices, and methods are disclosed. In one aspect, a system includes a vaporizer vessel having one or more interior walls enclosing an interior volume and a plurality of reagent support trays configured to be vertically stackable within the interior volume. Each of the plurality of reagent support trays is configured to be vertically stackable within the interior volume to form a stack of reagent support trays. One or more of the plurality of reagent support trays is configured to redirect a flow of a gas passing between adjacent reagent support trays in the stack of reagent support trays to cause the flow of gas to interact with the source reagent material in a particular reagent support tray before passing into a next of the plurality of reagent support trays in the stack of reagent support trays. L'invention concerne des systèmes, des plateaux de support de réactif, des dispositifs de suppression de particules et des méthodes. Selon un aspect, un système comprend un récipient vaporiseur avec une ou plusieurs parois intérieures enfermant un volume intérieur et une pluralité de plateaux de support de réactif conçus pour pouvoir être empilés verticalement dans le volume intérieur. Chaque plateau de support de réactif de la pluralité est conçu pour pouvoir être empilé verticalement dans le volume intérieur pour former une pile de plateaux de support de réactif. Un ou plusieurs plateaux de support de réactif de la pluralité sont conçus pour rediriger un flux de gaz passant entre des plateaux de support de réactif adjacents dans la pile de plateaux de support de réactif afin de provoquer l'interaction du flux de gaz avec le matériau réactif source dans un plateau de support de réactif particulier avant de passer dans un plateau de support de réactif suivant de la pluralité dans la pile de plateaux de support de réactif.