ROTATING DISK REACTOR WITH FERROFLUID SEAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

• Main Authors: GURARY, ALEXANDER, I, POLLOCK, JOHN, D, MILGATE, III, ROBERT, WHITE, BARRISS, LOUISE, S, LUSE, TODD, A, COMUNALE, RICHARD, A, FREMGEN, ROGER, P
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 21.11.2013
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A rotating disk reactor for chemical vapor deposition includes a vacuum chamber and a ferrofluid feedthrough comprising an upper and a lower ferrofluid seal that passes a motor shaft into the vacuum chamber. A motor is coupled to the motor shaft and is positioned in an atmospheric region between the upper and the lower ferrofluid seal. A turntable is positioned in the vacuum chamber and is coupled to the motor shaft so that the motor rotates the turntable at a desired rotation rate. A dielectric support is coupled to the turntable so that the turntable rotates the dielectric support when driven by the shaft. A substrate carrier is positioned on the dielectric support in the vacuum chamber for chemical vapor deposition processing. A heater is positioned proximate to the substrate carrier that controls the temperature of the substrate carrier to a desired temperature for chemical vapor deposition. Un réacteur à disque rotatif utilisé dans le dépôt chimique en phase vapeur comprend une chambre à vide et une alimentation de ferrofluide, comprenant des joints ferrofluides supérieur et inférieur, qui passe parun arbre de moteurpour pénétrer dans la chambre à vide. Un moteur est accouplé à l'arbre et est positionné dans une région atmosphérique entre les joints ferrofluides supérieur et inférieur. Une plaque tournante est positionnée dans la chambre à vide et est accouplée à l'arbre du moteur de sorte que le moteur entraîne en rotation la plaque tournante à une vitesse désirée. Un support diélectrique est accouplé à la plaque tournante de sorte que celle-ci fasse tourner le support diélectrique lorsqu'elle est entraînée par l'arbre. Un support de substrat est positionné sur le support diélectrique dans la chambre à vide en vue d'un traitement par dépôt chimique en phase vapeur. Un dispositif chauffant est positionné à proximité du support de substrat de façon à réguler la température de ce dernier à une température désirée pour le dépôt chimique en phase vapeur.