ACCOMMODATING CONTAINER, SHUTTER OPENING AND CLOSING UNIT FOR ACCOMMODATING CONTAINER, AND WAFER STOCKER USING SAME
Provided is a wafer stocker in which external atmosphere inflow can be prevented, a prescribed atmosphere can be maintained in a way for accommodating space with a comparatively small amount of a gas, and in which it is possible to prevent dust and grit from adhering to the surfaces of wafers. Shutt...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
24.10.2013
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Summary: | Provided is a wafer stocker in which external atmosphere inflow can be prevented, a prescribed atmosphere can be maintained in a way for accommodating space with a comparatively small amount of a gas, and in which it is possible to prevent dust and grit from adhering to the surfaces of wafers. Shutter parts formed from a plurality of shielding plates having a height dimension the same as the spacing of shelves disposed within an accommodating container are disposed with a minute gap opened with a main body part. By supplying a clean gas to the inside of the accommodating container, a clean atmosphere with higher pressure than the outside environment is maintained, and also the shutter part is opened and closed by moving the shielding plates up and down independently of the shelves that support wafers.
L'invention porte sur un dispositif de stockage de tranches dans lequel un écoulement d'entrée de l'atmosphère externe peut être empêché, une atmosphère prescrite peut être maintenue de telle sorte qu'un espace de réception ait une quantité comparativement faible d'un gaz, et dans lequel il est possible d'empêcher de la poussière et des particules d'adhérer aux surfaces de tranches. Des parties d'obturateur formées à partir d'une pluralité de plaques de blindage ayant une dimension de hauteur identique à l'espacement d'étagères disposées à l'intérieur d'un récipient de contenance sont disposées avec un minuscule espace ouvert avec une partie corps principale. En dirigeant un gaz propre à l'intérieur du récipient de contenance, une atmosphère propre avec une pression supérieure à celle de l'environnement externe est maintenue, et, également, la partie d'obturateur est ouverte et fermée par déplacement des plaques de blindage vers le haut et vers le bas indépendamment des étagères qui supportent des tranches. |
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Bibliography: | Application Number: WO2013JP60838 |