METHOD FOR EVACUATING VACUUM CHAMBER, VACUUM DEVICE, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY PANEL, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL LIGHT EMITTING DEVICE, AND METHOD FOR DETECTING IMPURITIES

• Main Authors: YAMADA, RYUUTA, KAWANAMI, YUKO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 03.10.2013
• Subjects: BLASTING; CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; HEATING; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; THEIR RELEVANT APPARATUS; TRANSPORTING; WEAPONS

Provided is a method for evacuating a vacuum chamber that reduces to the extent possible impurity contamination within the vacuum chamber. The method includes a roughing step that evacuates a vacuum chamber (1) using a roughing pump (2), which is a mechanical pump that can evacuate the vacuum chamber (1) to an internal pressure of less than 15 [Pa] and a main exhausting step that evacuates the vacuum chamber (1) after the roughing step using a main exhausting pump (3), which is a non-mechanical pump. Transition to the main exhausting step from the roughing step is carried out when the internal pressure of the vacuum chamber (1) is 15 [Pa] or more. L'invention fournit notamment un procédé de réduction de pression dans une chambre à vide, selon lequel l'intérieur de la chambre à vide est protégé autant que possible d'une pollution d'impuretés. Ledit procédé inclut : une étape de prévidage au cours de laquelle la pression à l'intérieur de la chambre à vide (1) est réduite à l'aide d'une pompe de prévidage (2) consistant en une pompe mécanique capable de réduire une pression de partie interne de la chambre à vide (1) au-dessous de 15[Pa] ; et une étape d'échappement principal au cours de laquelle, après l'étape de prévidage, la pression à l'intérieur de la chambre à vide (1) est réduite à l'aide d'une pompe d'échappement principal (3) consistant en une pompe mécanique. Le déplacement de l'étape de prévidage vers l'étape d'échappement principal, est effectué lorsque la pression de partie interne de la chambre à vide (1) est supérieure ou égale à 15[Pa].