METHOD OF PROCESSING A PHOTOSENSITIVE STRUCTURE

• Main Authors: BENTLEY, PHILIP GARETH, BROOKS, JONATHON, ROBINSON, MARTYN
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 06.09.2013
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The invention provides a method of applying a coating material to a photosensitive material to form a surface coating, wherein the photosensitive material, before or after curing, and the surface coating are soluble in a first liquid, the method comprising applying the coating material as a dispersion in a second liquid in which the photosensitive material is insoluble. By applying the coating material as a dispersion in a liquid in which the photosensitive material is insoluble, the photosensitive material is not disrupted. L'invention concerne un procédé d'application d'un matériau de revêtement à un matériau photosensible pour former un revêtement de surface, le matériau photosensible, avant ou après le traitement thermique, et le revêtement de surface étant solubles dans un premier liquide, le procédé comprenant l'application du matériau de revêtement sous forme d'une dispersion dans un second liquide dans lequel le matériau photosensible est insoluble. Par l'application du matériau de revêtement sous forme d'une dispersion dans un liquide dans lequel le matériau photosensible est insoluble, le matériau photosensible n'est pas perturbé.