OPTICAL MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL MEMBER

The purpose of the present invention is to provide an optical member which enables a patterned shape to be recognized when viewed from a predetermined angle, without obstructing the field of vision of a wearer, and to provide a method for manufacturing an optical member, whereby the optical member o...

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Main Authors OSHITA, SHUGO, HOSHINO, YUTA, KOSHI, YUKIKO
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 22.08.2013
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Summary:The purpose of the present invention is to provide an optical member which enables a patterned shape to be recognized when viewed from a predetermined angle, without obstructing the field of vision of a wearer, and to provide a method for manufacturing an optical member, whereby the optical member of such description can be manufactured. This optical member has a lens substrate (2), a patterning layer (3) patterned in a predetermined shape so as to cover a portion of the lens substrate (2), and a hard coat layer (4) formed so as to cover the lens substrate (2) and the patterning layer (3), and is characterized in that the refractive index of the lens substrate (2) is equal to the refractive index of the hard coat layer (4) and differs from the refractive index of the patterning layer (3) by at least 0.02. L'objet de la présente invention consiste à proposer un élément optique qui permet qu'une forme à motif soit reconnue lorsque l'on regarde depuis un angle prédéfini, sans obstruer le champ de vision d'un utilisateur, et à proposer un procédé de fabrication d'un élément optique permettant de fabriquer l'élément optique de l'invention. Cet élément optique comporte un substrat de lentilles (2), une couche de formation de motif (3) présentant une forme prédéfinie de façon à couvrir une partie du substrat de lentilles (2), et une couche de revêtement dur (4) formée de façon à couvrir le substrat de lentille (2) et la couche de formation de motif (3), et il est caractérisé en ce que l'indice de réfraction du substrat de lentille (2) est égal à l'indice de réfraction de la couche de revêtement dur (4) et diffère de l'indice de réfraction de la couche de formation de motif (3) d'au moins 0,02.
Bibliography:Application Number: WO2013JP00718