OPTICAL FILM THICKNESS MEASUREMENT APPARATUS AND THIN-FILM FORMING APPARATUS USING OPTICAL FILM THICKNESS MEASUREMENT APPARATUS

• Main Authors: OZAWA, KENJI, JIANG, YOUSONG, SAI, KYOKUYO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.08.2013
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; METALLURGY; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TESTING

Provided is an optical film thickness measurement apparatus that directly measures the film thickness of a product in real time and with high precision, without using a monitor substrate. The optical film thickness measurement apparatus is provided with: a lighting unit; a light reception unit; a plurality of inner beam splitters that are disposed within a substrate holding means and reflect measurement light towards substrates; an inner light reflection member that totally reflects measurement light from the nearest inner beam splitter among the plurality of inner beam splitters; a plurality of external beam splitters that reflect measurement light from the plurality of inner beam splitters towards the light reception unit; and an external light reflection member that reflects measurement light from the light reflection member towards the light reception unit. Measurement light reflected by the inner beam splitters and the inner light reflection member is transmitted through the substrates, then reflected by the external beam splitters and the external light reflection member toward the light reception unit and received thereby. La présente invention porte sur un appareil de mesure d'épaisseur de film optique qui mesure directement l'épaisseur de film d'un produit en temps réel et avec une précision élevée, sans utiliser un substrat moniteur. L'appareil de mesure d'épaisseur de film optique comporte : une unité d'éclairage ; une unité de réception de lumière ; une pluralité de diviseurs de faisceau intérieurs qui sont disposés à l'intérieur d'un moyen de maintien de substrat et réfléchissent une lumière de mesure vers des substrats ; un élément de réflexion de lumière intérieur qui réfléchit totalement une lumière de mesure provenant du diviseur de faisceau intérieur le plus proche parmi la pluralité de diviseurs de faisceau intérieurs ; une pluralité de diviseurs de faisceau extérieurs qui réfléchissent une lumière de mesure provenant de la pluralité de diviseurs de faisceau intérieurs vers l'unité de réception de lumière ; et un élément de réflexion de lumière extérieur qui réfléchit une lumière de mesure provenant de l'élément de réflexion de lumière vers l'unité de réception de lumière. Une lumière de mesure réfléchie par les diviseurs de faisceau intérieurs et l'élément de réflexion de lumière intérieur est émise à travers les substrats, puis réfléchie par les diviseurs de faisceau extérieurs et l'élément de réflexion de lumière extérieur vers l'unité de réception de lumière et reçue par celle-ci.