METHOD FOR FORMING ANTIFOULING FILM

• Main Authors: JIANG, YOUSONG, SHIONO, ICHIRO, MIYAUCHI, MITSUHIRO, SAMORI, SHINGO, NAGAE, EKISHU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 18.07.2013
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Provided is a method for forming an antifouling film which exhibits abrasion resistance sufficient for practical use. This film-forming method is a method for using a film-forming device (1) that has a pressure control means (vacuum pump (24), pressure detection means (22), controller (52)) which controls the pressure within a vacuum chamber (2), holding a plurality of substrates (101) to be subjected to film formation against a substrate holder (4a) in a manner such that the substrates (101) face a deposition source (36), and then forming an antifouling film on each of the plurality of substrates (101) while rotating the substrate holder (4a), wherein the antifouling film is formed after adjusting the interior pressure of the vacuum chamber (2) by operating the pressure control means in a manner such that the interior pressure of the vacuum chamber (2) falls within a pressure range determined on the basis of the distance between the deposition source (36) and the substrate (101) held near the axis of rotation of the substrate holder (4a). It is preferable to adjust the interior pressure of the vacuum chamber (2) in a manner such that P satisfies the following relationship, when the distance between the substrate (101) and the deposition source (36) is set to SS (unit is mm), and the antifouling film formation pressure is set to P (unit is Pa): (0.06/SS)<=P<=(50/SS). La présente invention se rapporte à un procédé permettant de former un film anti-salissures qui présente une résistance à l'abrasion qui est suffisante pour permettre une utilisation pratique. Ce procédé de formation d'un film est un procédé consistant à utiliser un dispositif de formation de film (1) qui comprend un moyen de régulation de pression (une pompe à vide (24), un moyen de détection de pression (22), un dispositif de commande (52)) qui régule la pression à l'intérieur d'une chambre à vide (2), à maintenir une pluralité de substrats (101), qui doivent être soumis à une formation de film, contre un support de substrat (4a) de telle manière que les substrats (101) soient orientés vers une source de dépôt (36), et, ensuite, à former un film anti-salissures sur chaque substrat de la pluralité de substrats (101) tout en tournant le support de substrat (4a), le film anti-salissures étant formé après ajustement de la pression à l'intérieur de la chambre à vide (2) par actionnement du moyen de régulation de pression de telle manière que la pression à l'intérieur de la chambre à vide (2) baisse dans les limites d'une plage de pression déterminée sur la base de la distance entre la source de dépôt (36) et le substrat (101) maintenu près de l'axe de rotation du support de substrat (4a). Il est préférable d'ajuster la pression à l'intérieur de la chambre à vide (2) de telle manière que P satisfasse la relation suivante, où la distance entre le substrat (101) et la source de dépôt (36) est fixée à SS (l'unité est le millimètre (mm)) et où la pression de formation d'un film anti-salissures est établie à P (l'unité est le Pascal (Pa)) : (0,06/SS) <= P <= (50/SS).