EXPOSURE DEVICE, AND PRODUCTION METHOD FOR STRUCTURE

• Main Authors: EBATA YOSHISADA, NAKAI NAOYA
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 13.06.2013
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

When exposing interference fringes on a photoresist or the like and attempting to produce a desired relief pattern, it is necessary to know the period of the interference fringes in advance. In order to confirm the period of the interference fringes in advance, conventional methods have required the repetition of processes for exposure, development and observation (measurement) while finely adjusting the incident angle of the light flux for forming the interference fringes until the desired period is confirmed by observing the produced relief pattern using a microscope or by measuring the angle at which light incident to the relief pattern is diffracted. Such a process requires time. Conventional methods have not taken into consideration the fact that time is required for the confirmation of the interference fringes. By using a standard sample having a reusable fluorescent sample to observe the moiré, and adjusting the period of the interference fringe, the adjustment time can be reduced. Lorsque des franges d'interférence sont exposées sur une résine photosensible ou analogue et qu'on tente de produire un motif en relief désiré, il est nécessaire de connaître par avance la période des franges d'interférence. Afin de confirmer la période des franges d'interférence par avance, les procédés classiques requièrent la répétition de processus d'exposition, de développement et d'observation (mesure) tout effectuant un réglage fin de l'angle incident du flux lumineux afin de former les franges d'interférence jusqu'à ce que la période désirée soit confirmée par observation du motif en relief produit au moyen d'un microscope ou par mesure de l'angle selon lequel la lumière incidente sur le motif en relief est diffractée. Ce processus requière du temps. Les procédés classiques ne prennent pas en compte le fait que du temps est nécessaire pour confirmer les franges d'interférence. L'utilisation d'un échantillon standard comprenant un échantillon fluorescent réutilisable pour observer le moiré, et le réglage de la période de la frange d'interférence permettent de réduire le temps de réglage.