ORGANIC LIGHT-EMITTING PANEL AND METHOD FOR PRODUCING SAME

• Main Authors: YONEDA, KAZUHIRO, MATSUSUE, NORIYUKI, KURATA, KEIKO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 10.05.2013
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention includes: a reflection electrode (2); functional layers (3, 4, 5) which are layered on the reflection electrode and have one or a plurality of layers; organic light-emitting layers (6b, 6g, 6r) layered on the functional layers; a transparent electrode (8) provided above the organic light-emitting layers; a low-refractive-index layer (9) layered on the transparent electrode; and a first thin-film sealing layer (10) layered on the low-refractive-index layer. The refractive index of the low-refractive-index layer (9) is lower than the refractive index of the transparent electrode (8), and the difference in the refractive indices thereof is 0.4-1.1. The refractive index of the low-refractive-index layer (9) is lower than the refractive index of the first thin-film sealing layer (10), and the difference in the refractive indices thereof is 0.1-0.8. The thickness of the low-refractive-index layer (9) is 20-130 nm. L'invention concerne : une électrode réfléchissante (2) ; des couches fonctionnelles (3, 4, 5) qui sont stratifiées sur l'électrode réfléchissante et qui comportent une couche ou une pluralité de couches ; des couches électroluminescentes organiques (6b, 6g, 6r) stratifiées sur les couches fonctionnelles ; une électrode transparente (8) placée au-dessus des couches électroluminescentes organiques ; une couche à faible indice de réfraction (9) stratifiée sur l'électrode transparente ; et une première couche d'étanchéité à film mince (10) stratifiée sur la couche à faible indice de réfraction. L'indice de réfraction de la couche à faible indice de réfraction (9) est inférieur à l'indice de réfraction de l'électrode transparente (8), la différence entre leurs indices de réfraction étant de 0,4 à 1,1. L'indice de réfraction de la couche à faible indice de réfraction (9) est inférieur à l'indice de réfraction de la couche d'étanchéité à film mince (10), la différence de leurs indices de réfraction étant de 0,1 à 0,8. L'épaisseur de la couche à faible indice de réfraction (9) est de 20 à 130 nm.