TUBULAR TARGET

• Main Authors: WOLF, HARTMUT, WILL, TOBIAS, DRONHOFER, ANDRE, KOECK, WOLFGANG, ABENTHUNG, PETER, LINKE, CHRISTIAN
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 25.04.2013
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Die Erfindung beschreibt ein Rohrtarget aus Refraktärmetall oder einer Refraktärmetalllegierung, das zumindest einen Rohrabschnitt X mit einer relativen Dichte RDx und zumindest einen Rohrabschnitt Y mit einer relativen Dichte RDy umfasst, wobei zumindest ein Rohrabschnitt X zumindest bereichsweise einen größeren Außendurchmesser als zumindest bereichsweise ein Rohrabschnitt Y aufweist und das Dichteverhältnis die Beziehung (RDy- RDx)/RDy >= 0,001 erfüllt. Weiters beschreibt die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Rohrtargets aus Refraktärmetall oder einer Refraktärmetall- Legierung durch Sintern und örtlich unterschiedlich hohes Verformen. Das Rohrtarget weist einen über die gesamte Oberfläche gleichmäßigeren Sputterabtrag auf im Vergleich zu Rohrtargets gemäß dem Stand der Technik. Die Rohrtargets neigen weder zum Arcen, noch zur Teilchengenerierung. The invention relates to a tubular target of refractory metal or a refractory metal alloy, which has at least one tubular portion X having a relative density RDx and at least one tubular portion Y having a relative density RDy, wherein at least one tubular portion X comprises at least in some regions a larger outer diameter than at least in some regions a tubular portion Y and the density ratio satisfies the relation (RDy-RDx)/RDy >= 0.001. The invention further relates to a method for producing a tubular target from refractory metal or a refractory metal alloy by sintering and local deformation of different degree. The tubular target has a more uniform sputter removal over the entire surface area compared with tubular targets according to the prior art. The tubular targets do not exhibit any tendency to arcing or to particle regeneration. L'invention concerne une cible tubulaire en métal réfractaire ou en alliage métallique réfractaire, qui comporte au moins un segment tubulaire X ayant une densité relative RDx et au moins un segment tubulaire Y ayant une densité relative RDy, au moins un segment tubulaire X ayant au moins par endroits un diamètre extérieur supérieur à celui que présente au moins par endroits un segment tubulaire Y et le rapport des densités satisfaisant à la relation (RDy- RDx)/RDy >= 0,001. L'invention concerne également un procédé de production d'une cible tubulaire en métal réfractaire ou en alliage métallique réfractaire par frittage et déformation à un degré différent selon l'endroit. La cible tubulaire selon l'invention subit une ablation de pulvérisation plus homogène sur l'ensemble de sa surface que les cibles tubulaires selon l'état de la technique. Ces cibles tubulaires ne tendent ni à la production d'arc, ni à la génération de particules.