LIQUID TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE, AND METHOD FOR CONTROLLING LIQUID TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE

• Main Authors: MOURI NOBUHIKO, HIDAKA SHOICHIRO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 14.03.2013
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

This liquid treatment apparatus for a substrate has: a rotating plate (23P), which is rotated by means of a rotary drive unit; substrate supporting units (51), each of which extends along the circumferential end of the rotating plate (23P) and support the circumferential end of the substrate; guide units (52), each of which is provided on an upper end of each of the substrate supporting units (51), and guides the substrate to each of the substrate supporting units (51); and a supply unit (24B), which supplies a liquid to the substrate from above, said substrate having the circumferential end thereof supported by means of the substrate supporting units (51). At least three guide units (52) are provided in the circumferential direction of the rotating plate (23P), and have a height higher than the surface of the substrate having the circumferential end thereof supported by means of the substrate supporting units (51). La présente invention porte sur un appareil de traitement par liquide pour substrat, qui a : une plaque tournante (23P), qui est mise en rotation au moyen d'une unité d'entraînement en rotation ; des unités de support de substrat (51), chacune s'étendant le long de l'extrémité circonférentielle de la plaque tournante (23P) et supportant l'extrémité circonférentielle du substrat ; des unités de guidage (52), chacune étant disposée sur une extrémité supérieure de chacune des unités de support de substrat (51) et guidant le substrat vers chacune des unités de support de substrat (51) ; et une unité de distribution (24B), qui distribue un liquide sur le substrat par le dessus, ledit substrat ayant son extrémité circonférentielle supportée au moyen des unités de support de substrat (51). Au moins trois unités de guidage (52) sont disposées dans la direction circonférentielle de la plaque tournante (23P), et ont une hauteur supérieure à la surface du substrat ayant son extrémité circonférentielle supportée au moyen des unités de support de substrat (51).