METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE POLARIZER

• Main Author: LIM, JUNG KU
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 20.12.2012
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

The present invention relates to a method for manufacturing a reflective polarizer, and more specifically to a method for manufacturing a reflective polarizer, including the steps of: coating a block copolymer composed of first and second blocks on a supporter and setting an arrangement direction of the first and second blocks by applying shear force in one direction; thermally processing the block copolymer set in an arrangement direction and separating and arranging the first and second blocks of a lamellae structure; forming a pattern by etching one of the first and second blocks; and forming a metal layer on the block copolymer having the pattern. The present invention can reduce thickness by forming a metal pattern of a single layer, maintain polarization and permeability that are equal to or greater than the polarization and permeability of an absorbing type polarizer, and easily manufacture a large-sized polarizer at a low cost. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un polariseur réfléchissant, et plus particulièrement un procédé de fabrication consistant : à revêtir un copolymère à blocs constitué de premier et deuxième blocs sur un support et à régler le sens de disposition des premier et deuxième blocs par application d'une force de cisaillement dans un sens ; à traiter thermiquement le copolymère à blocs dont le sens de disposition a été réglé et à séparer et disposer les premier et deuxième blocs d'une structure lamellaire ; à former un motif par gravure du premier ou du deuxième bloc ; et à former une couche métallique sur le copolymère à blocs comportant le motif. La présente invention permet de réduire l'épaisseur par formation d'un motif métallique d'une couche unique, de maintenir une polarisation et une perméabilité supérieures ou égales aux polarisation et perméabilité d'un polariseur de type absorbant et de fabriquer facilement et à faible coût un polariseur de grandes dimensions.