CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND SAMPLE PRODUCTION METHOD

• Main Authors: NANRI TERUTAKA, TOMIMATSU SATOSHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 13.12.2012
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

Provided are a charged particle beam device and sample production method, with which, in FIB processing which is sample dependent, it is possible to carry out efficient processing to obtain a desired shape without the individual differences of workers affecting the processing. The charged particle beam device has mounted therein: an ion beam optical system device for irradiating a sample with an ion beam generated by an ion source, and a device for controlling the ion beam optical system device; an element detector for detecting the constituent element of the sample, and a device for controlling the element detector; and a central processing device for automatically setting processing conditions for the sample on the basis of the element specified by the element detector. L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées et un procédé de production d'un échantillon avec lesquels, lors d'un traitement par FIB qui dépend de l'échantillon, il est possible de réaliser un traitement efficace en vue d'obtenir une forme souhaitée sans que les différences individuelles des opérateurs affectent le traitement. Dans le dispositif à faisceau de particules chargées sont montés : un dispositif à système optique à faisceau d'ions pour irradier un échantillon avec un faisceau d'ions généré par une source d'ions, et un dispositif pour commander le dispositif à système optique à faisceau d'ions ; un détecteur d'élément pour détecter un élément constitutif de l'échantillon et un dispositif pour commander le détecteur d'élément ; et un dispositif de traitement central pour régler automatiquement les conditions de traitement de l'échantillon en se basant sur l'élément indiqué par le détecteur d'élément.