COMPOSITION FOR COATING FILM FORMATION PURPOSES

The surface of a base is treated with a composition for coating film formation purposes which comprises (A) an organoalkoxysilane, (B) an organopolysiloxane having a silicon atom bound thereto and containing a hydrogen atom and (C) a condensation reaction catalyst. The composition for coating film f...

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Main Authors OKAWA, TADASHI, AKINAGA, KEIICHI, NISHIJIMA, KAZUHIRO, KITAURA, EIJI
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 11.10.2012
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Summary:The surface of a base is treated with a composition for coating film formation purposes which comprises (A) an organoalkoxysilane, (B) an organopolysiloxane having a silicon atom bound thereto and containing a hydrogen atom and (C) a condensation reaction catalyst. The composition for coating film formation purposes enables the formation of a water-repellent coating film having high hydrophobicity and sufficient water skiing performance, and also enables the provision of a base, e.g., a heat-releasing body, which has high hydrophobicity. La surface d'une base est traitée par une composition à des fins de formation de film de revêtement. Cette composition comprend (A) un organoalcoxysilane, (B) un organopolysiloxane ayant un atome de silicium lié à celui-ci et contenant un atome d'hydrogène et (C) un catalyseur de réaction de condensation. La composition à des fins de formation de film de revêtement permet la formation d'un film de revêtement hydrofuge, ayant une hydrophobicité élevée et une performance de glissement sur l'eau suffisante, et permet également la mise à disposition d'une base, par exemple, d'un corps libérant de la chaleur, qui présente une hydrophobicité élevée.
Bibliography:Application Number: WO2012JP59835