RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM OF SAME, AND METHOD FOR FORMING CURED FILM

• Main Authors: UEDA, JIROU, HONDA, AKIHISA, OKUDA, TSUTOMU, SUZUKI, YASUNOBU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 27.09.2012
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

Provided is a radiation-sensitive composition, which is capable of forming a cured film that has a good balance among the characteristics required for protective films or interlayer insulating films at a high level, and which can be developed with an inorganic alkali developer solution. This radiation-sensitive composition contains the following components [A1], [B] and [C]. [A1] A polysiloxane which is obtained by subjecting tetraethoxysilane or a partial hydrolysis product thereof, a hydrolyzable silane compound represented by formula (1) or a partial hydrolysis product thereof, and a hydrolyzable silane compound represented by formula (2) or a partial hydrolysis product thereof to hydrolysis-condensation [B] A compound which has two or more ethylenically unsaturated groups (excluding the component [A1]) [C] A radical photopolymerization initiator In formulae (1) and (2), each of R1 and R3 represents an alkyl group having 1-6 carbon atoms; R2 represents an alkyl group having 1-20 carbon atoms, or the like; m represents an integer of 1-3; n represents an integer of 0-6; x represents an integer of 1-3; y represents an integer of 1-6; and z represents an integer of 0-3. L'invention concerne une composition sensible à un rayonnement, qui est apte à former un film durci qui a un bon équilibre entre les caractéristiques requises pour des films protecteurs ou des films isolants intercouches à un niveau élevé, et qui peut être développé par une solution de développeur alcalin inorganique. Cette composition sensible à un rayonnement contient les constituants suivants [A1], [B] et [C]. [A1] : un polysiloxane que l'on obtient en soumettant du tétraéthoxysilane ou un produit d'hydrolyse partiel de celui-ci, un composé silane hydrolysable représenté par la formule (1) ou un produit d'hydrolyse partiel de celui-ci, et un composé silane hydrolysable représenté par la formule (2) ou un produit d'hydrolyse partiel de celui-ci, à une hydrolyse-condensation. [B] : un composé qui a au moins deux groupes à insaturation éthylénique (à l'exclusion du constituant [A1]). [C] : un initiateur de photopolymérisation radicalaire. Dans les formules (1) et (2), R1 et R3 représentent chacun un groupe alkyle ayant 1-6 atomes de carbone, R2 représente un groupe alkyle ayant 1-20 atomes de carbone ou similaires ; m représente un entier de 1-3 ; n représente un entier de 0-6 ; x représente un entier de 1-3 ; y représente un entier de 1-6 ; et z représente un entier de 0-3.