COATING DEVICE AND COATING METHOD

• Main Authors: LIN, MIN, OZAKI, FUMIYOSHI, TANI, YOSHINORI, KAWATAKE, HIROSHI, MURAO, KOICHI, MURAI, NOBUHIKO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 13.09.2012
• Subjects: APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; PERFORMING OPERATIONS; PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; TRANSPORTING

A coating device and a coating method capable of suppressing fluctuation in the width dimension of a coated film formed from an applied coating liquid, while having a discharge width that is easy to change. Specifically, the present invention is provided with: a slit nozzle (10) that has a discharge port (11) comprising a long widthwise slit (16) and that discharges a coating liquid from the discharge port (11) to coat a substrate (W); a drive unit (4) that moves the substrate (W) with respect to the slit nozzle (10) in a front-back direction; a discharge-width changing member (17) that changes the width dimension of the discharge port (11) by moving inside of the slit (16) in the widthwise direction; and an air-supply unit (21) that has an air nozzle (22) that sprays air on regions of both external widthwise sides of the coating liquid discharged from the discharge port (11), and which is capable of adjusting the spray location of the air from the air nozzle (22) corresponding to changes in the width dimension of the discharge port (11). L'invention concerne un dispositif de revêtement et une méthode de revêtement capable de supprimer les fluctuations de largeur d'un film de revêtement formé à partir d'un liquide de revêtement appliqué, tout en permettant de changer facilement la largeur de projection. En particulier, la présente invention comprend : une buse à fente (10) dotée d'un orifice de projection (11) comprenant une longue fente longitudinale (16) et qui projette un liquide de revêtement par l'orifice de projection (11) afin de revêtir un substrat (W) ; une unité d'entraînement (4) qui déplace le substrat (W) par rapport à la buse à fente (10) dans une direction aller-retour ; un élément de modification de largeur de projection (17) qui modifie la dimension en largeur de l'orifice de projection (11) en se déplaçant à l'intérieur de la fente (16) dans la direction latérale ; et une unité d'alimentation en air (21) qui comporte une buse d'air (22) qui pulvérise de l'air sur les régions des deux côtés latéraux extérieurs du liquide de revêtement projeté par l'orifice de projection (11) et qui est capable d'ajuster l'emplacement de la pulvérisation de l'air sortant de la buse d'air (22) correspondant aux modifications de la largeur de l'orifice de projection (11).