APPARATUS AND PROCESS FOR PROCESSING AN SIO2-CONTAINING MATERIAL

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Verarbeiten von SiO2-haltigen Materialien, wobei zumindest ein Vorrichtungsteil, das mit den SiO2-haltigen Materialien in Berührung kommt, zumindest bereichsweise mit einem oder mehreren Werkstoffen beschichtet ist und/oder aus einem oder mehreren Werkstof...

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Main Authors RAULEDER, HARTWIG, LANG, JUERGEN ERWIN, FRINGS, BODO
Format Patent
LanguageEnglish
French
German
Published 18.04.2013
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Summary:Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Verarbeiten von SiO2-haltigen Materialien, wobei zumindest ein Vorrichtungsteil, das mit den SiO2-haltigen Materialien in Berührung kommt, zumindest bereichsweise mit einem oder mehreren Werkstoffen beschichtet ist und/oder aus einem oder mehreren Werkstoffen besteht, wobei der Werkstoff oder die Werkstoffe im Wesentlichen aus Silicium und/oder aus Sauerstoff, Wasserstoff und/oder aus den Elementen des Periodensystems der Elemente (PSE) aufgebaut ist oder sind, die im Rahmen der Verarbeitung des SiO2-haltigen Materials Teil der dem SiO2-haltigen Material beizumengenden Stoffe sind. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Aufbereitung von Ausgangsstoffen für die Herstellung von Silicium, vorzugsweise mit einer solchen Vorrichtung, wobei SiO2-haltige Materialien verarbeitet werden, die bei dem Verfahren gefördert, verflüssigt und/oder komprimiert werden. The invention relates to an apparatus for processing SiO2-containing materials, wherein at least one apparatus part which comes into contact with the SiO2-containing materials is coated at least in regions with one or more materials and/or consists of one or more materials, the material(s) being formed essentially from silicon and/or from oxygen, hydrogen and/or from the elements of the Periodic Table of the Elements (PTE) which form part of the substances to be added to the SiO2-containing material in the course of processing of the SiO2-containing material. The invention further relates to a process for treating starting materials for the production of silicon, preferably with such an apparatus, wherein SiO2-containing materials which are conveyed, liquefied and/or compressed in the process are processed. L'invention concerne un dispositif pour façonner des matériaux à base de SiO2. Au moins une partie dudit dispositif qui vient en contact avec les matériaux à base de SiO2 est recouverte au moins par endroits d'un ou de plusieurs matériaux et/ou se compose d'un ou de plusieurs matériaux, ledit ou lesdits matériaux étant ou se composant essentiellement de silicium et/ou d'oxygène, d'hydrogène et/ou des éléments de la classification périodique des éléments qui font partie des substances à ajouter au matériau à base de SiO2 dans le cadre du façonnage du matériau à base de SiO2. L'invention concerne en outre un procédé de façonnage de substances de base pour produire du silicium, de préférence au moyen d'un dispositif de ce type, procédé selon lequel des matériaux à base de SiO2 acheminés, fluidifiés et/ou compactés pendant le déroulement dudit procédé sont façonnés.
Bibliography:Application Number: WO2012EP52448