EXHAUST GAS PROCESSING DEVICE

• Main Authors: SHIMAMUNE, TAKAYUKI, SAKATA, TOYOAKI, KATO, KENJI
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 07.09.2012
• Subjects: PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SEPARATION; TRANSPORTING

The present invention relates to processing of exhaust gas generated from the manufacture of silicon by reduction of zinc, and to an apparatus for processing exhaust gas, comprising: a dissolved gas absorbing device for absorbing gas emitted by introduction of aqueous zinc chloride solution from the top of a cycle tower; a device for circulating the aqueous zinc chloride solution; a device for filtering the aqueous zinc chloride solution which has absorbed the generated exhaust gas; a device for adjusting the density of the aqueous zinc chloride solution which has absorbed the generated exhaust gas; and a device for maintaining the treated aqueous zinc chloride solution. La présente invention concerne le traitement de gaz d'échappement générés à partir de la fabrication de silicium par réduction de zinc, et un appareil pour le traitement du gaz d'échappement, comprenant : un dispositif absorbant le gaz dissous pour absorber les gaz émis par l'introduction d'une solution aqueuse de chlorure de zinc à partir du sommet d'une tour de cycle ; un dispositif pour la circulation de la solution aqueuse de chlorure de zinc ; un dispositif pour la filtration de la solution aqueuse de chlorure de zinc qui a absorbé le gaz d'échappement généré ; un dispositif pour l'ajustement de la densité de la solution aqueuse de chlorure de zinc qui a absorbé le gaz d'échappement généré ; et un dispositif pour le maintien de la solution aqueuse traitée de chlorure de zinc.