LIGHT SOURCE ADJUSTMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE

• Main Author: FUJIMURA, YOSHIHIKO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 10.05.2012
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

By means of a main control unit, multiple lenses of a fly-eye lens and multiple mirror elements of a spatial light modulator are optimally combined on the basis of characteristics (reflection rate, etc.) of the multiple mirror elements, the shape of the optical beam irradiated onto the multiple mirror elements and the target shape of an illumination light source, and, in accordance with the results of said optimization, an illumination light source (secondary light source) is formed on the pupil plane of the illumination optical system via the mirror elements (step 206); the shape of the illumination light source is measured (step 208); the characteristics (reflection rate, etc.) of the mirror elements are estimated using the shape of the beam and the result of the aforementioned measurement (step 216); and the shape of the illumination light source is adjusted on the basis of the result of estimating the characteristics of the mirror elements. By this means, the characteristics of the mirror elements are estimated accurately, and on the basis of the estimation results it becomes possible to accurately adjust the shape of the illumination light source. Selon l'invention, grâce à une unité principale de commande, des objectifs multiples d'un objectif en oeil de mouche et des miroirs élémentaires multiples d'un modulateur spatial de lumière sont combinés de manière optimale sur la base de caractéristiques (taux de réflexion, etc.) des miroirs élémentaires multiples, de la forme du faisceau optique envoyé sur les miroirs élémentaires multiples et de la forme cible d'une source lumineuse d'éclairement. En fonction des résultats de cette optimisation, une source lumineuse d'éclairement (source lumineuse secondaire) est formée sur le plan de pupille du système optique d'éclairement à l'aide des miroirs élémentaires (étape 206) ; la forme de la source lumineuse d'éclairement est mesurée (étape 208) ; les caractéristiques (taux de réflexion, etc.) des miroirs élémentaires sont estimées en utilisant la forme du faisceau et le résultat de la mesure ci-dessus (étape 216) ; et la forme de la source lumineuse d'éclairement est ajustée en fonction du résultat de l'estimation des caractéristiques des miroirs élémentaires. De cette façon, les caractéristiques des miroirs élémentaires sont estimées de manière précise et, sur la base des résultats de l'estimation, il devient possible d'ajuster de manière précise la forme de la source lumineuse d'éclairement.