SUBSTRATE HEATING DEVICE

• Main Authors: POPPELLER, MARKUS, SCHMOLL, RALPH, DESPONT, LAURENT
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 08.03.2012
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The invention relates to a susceptor for supporting a substrate (9) within a vacuum process chamber, comprising a flat surface (11) for placing the substrate (9) thereon such that the substrate (9) is in thermally conductive contact with the surface (11), whereby the susceptor (1) comprises at least three adjacent zones (5, 6, 8), an outer zone (8), a middle zone (6) and an inner zone (5), the zones (5, 6, 8) arranged concentrically around each other and extending along the surface (11), the outer zone (8) completely surrounds the middle zone (6) and the middle zone (6) completely surrounds the inner zone (5), the inner zone (5) comprises at least one inner heating element (13) affecting the inner zone (5), the outer zone (8) comprises at least one outer heating element (19) affecting the outer zone (8), the middle zone (6) exhibits a maximal thickness (15) that is smaller than the minimal thickness (12) of the inner zone (5) and smaller than the minimal thickness (16) of the outer zone (8), each thickness (12, 15, 16) extending perpendicular to the surface (11). Thus, the invention allows for providing a smooth temperature profile over the complete surface (11) area resulting in a highly uniform substrate (9) temperature and thus in an improved thickness (12, 15, 16) uniformity of a coating to be provided e.g. in a chemical vapour deposition process. L'invention concerne un suscepteur destiné à supporter un substrat (9) au sein d'une chambre de traitement sous vide, comprenant une surface plane (11) afin d'y placer le substrat (9), si bien que le substrat (9) se trouve en contact thermiquement conducteur avec la surface (11). Le suscepteur (1) comprend au moins trois zones adjacentes (5, 6, 8), à savoir une zone extérieure (8), une zone intermédiaire (6) et une zone intérieure (5) disposées concentriquement les unes autour des autres et s'étendant sur la surface (11). La zone extérieure (8) entoure complètement la zone intermédiaire (6) et la zone intermédiaire (6) entoure complètement la zone intérieure (5). La zone intérieure (5) comprend au moins un élément chauffant intérieur (13) agissant sur la zone intérieure (5) et la zone extérieure (8) comprend au moins un élément chauffant extérieur (19) agissant sur la zone extérieure (8). La zone intermédiaire (6) présente une épaisseur maximale (15) qui est inférieure à l'épaisseur minimale (12) de la zone intérieure (5) et inférieure à l'épaisseur minimale (16) de la zone extérieure (8), chacune des épaisseurs (12, 15, 16) étant perpendiculaire à la surface (11). Ainsi, l'invention assure un profil de température régulier sur la surface (11) complète, ce qui assure une température extrêmement uniforme du substrat (9) et donc une uniformité améliorée de l'épaisseur (12, 15, 16) d'un revêtement à appliquer, par exemple dans un traitement de dépôt chimique en phase vapeur.