MULTI FACET MIRROR OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

• Main Authors: HAUF, MARKUS, RASSEL, THORSTEN
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 01.03.2012
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A multi facet mirror (26) of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a plurality of mirror facet units. Each unit comprises a mirror member (32) with a body (40), a reflective coating (44) provided at one end of the body (40) and an actuating surface (50) provided at an opposite end. The unit further comprises a rest member (70) on which the actuating surface (50) rests while the mirror member (32) is not moving, and an actuator (72) that tilts the mirror member about a tilting axis (52). The actuator has a contact surface (80) and a lifting member (74) which moves the actuating surface along a lifting direction (Z). In a first operating state of the lifting member the actuating surface rests on the rest member and in a second operating state on the contact surface. A displacement member (76, 78) displaces the contact surface along a lateral direction only while the lifting member is in the second operating state. L'invention porte sur un miroir à facettes multiples (26) d'un appareil d'exposition par projection microlithographique, lequel miroir comprend une pluralité d'unités de facettes de miroir. Chaque unité comprend un élément de miroir (32) doté d'un corps (40), un revêtement réfléchissant (44) disposé à une extrémité du corps (40) et une surface d'actionnement (50) disposée à une extrémité opposée. L'unité comprend de plus un élément de support (70) sur lequel repose la surface d'actionnement (50) lorsque l'élément de miroir (32) ne bouge pas, et un actionneur (72) qui incline l'élément de miroir autour d'un axe d'inclinaison (52). L'actionneur comporte une surface de contact (80) et un élément de soulèvement (74) qui déplace la surface d'actionnement le long d'une direction de soulèvement (Z). Dans un premier état de fonctionnement de l'élément de soulèvement, la surface d'actionnement repose sur l'élément de support, et, dans un second état de fonctionnement, sur la surface de contact. Un élément de déplacement (76, 78) déplace la surface de contact le long d'une direction latérale uniquement lorsque l'élément de soulèvement est dans le second état de fonctionnement.