APPARATUS FOR CONTROLLING THE FLOW OF A GAS IN A PROCESS CHAMBER

• Main Authors: PALAGASHVILI, DAVID, WILLWERTH, MICHAEL, D, LIU, JINGBAO
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 02.02.2012
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Apparatus for controlling the flow of a gas in a process chamber is provided herein. In some embodiments, an apparatus for controlling the flow of a gas in a process chamber having a processing volume within the process chamber disposed above a substrate support and a pumping volume within the process chamber disposed below the substrate support may include an annular plate surrounding the substrate support proximate a level of a substrate support surface of the substrate support, wherein the annular plate extends radially outward toward an inner peripheral surface of the process chamber to define a uniform gap between an outer edge of the annular plate and the inner peripheral surface, wherein the uniform gap provides a uniform flow path from the processing volume to the pumping volume. L'invention concerne un appareil de régulation du débit d'un gaz dans une chambre de traitement. Dans certains modes de réalisation, un appareil de régulation du débit d'un gaz dans une chambre de traitement présentant un volume de traitement à l'intérieur de la chambre de traitement agencé au-dessus d'un support de substrat et un volume de pompage à l'intérieur de la chambre de traitement agencé au-dessous du support de substrat, peut comprendre une plaque annulaire entourant le support de substrat à proximité d'un niveau d'une surface du support de substrat, la plaque annulaire s'étendant radialement vers l'extérieur en direction d'une surface périphérique interne de la chambre de traitement, de manière à délimiter un espace uniforme entre un bord externe de la plaque annulaire et la surface périphérique interne, l'espace uniforme présentant un trajet d'écoulement uniforme du volume de traitement au volume de pompage.