SINTERED NICKEL CATHODE, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND ALKALINE STORAGE BATTERY EMPLOYING THE SINTERED NICKEL CATHODE
Provided is a sintered nickel cathode, wherein the employment of nickel hydroxide, forming a specific crystalline structure, as a primary active material, expands the range of usability to low-charge regions. In the sintered nickel cathode according to the present invention, a cathode active materia...
Saved in:
Main Authors | , , , , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
02.02.2012
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | Provided is a sintered nickel cathode, wherein the employment of nickel hydroxide, forming a specific crystalline structure, as a primary active material, expands the range of usability to low-charge regions. In the sintered nickel cathode according to the present invention, a cathode active material, with nickel hydroxide (ß-Ni(OH)2) being the primary constituent, is filled by impregnation over a plurality of iterations in a nickel-sintered substrate. The integrated intensity ratio of the peak intensity of the nickel hydroxide (ß-Ni(OH)2) in a (001) face to the peak intensity thereof in a (100) face, derived by x-ray diffraction, is greater than or equal to 1.8. The integrated intensity ratio of the peak intensity in the (001) face to the peak intensity in the (100) face of a conventional mode is on the order of 1.5. Employing the mode with the integrated intensity ratio thereof that is greater than or equal to 1.8 allows high-efficiency continuous discharge even in low-charge regions.
L'invention concerne une cathode de nickel fritté, dans laquelle l'emploi d'hydroxyde de nickel, formant une structure cristalline spécifique, en tant que matière active primaire, élargit la plage d'aptitude à l'utilisation aux régions de faible charge. Dans la cathode de nickel fritté selon la présente invention, une matière active de cathode, l'hydroxyde de nickel (ß-Ni(OH)2) étant le constituant primaire, est introduite par imprégnation sur une pluralité d'itérations dans un substrat de nickel fritté. Le rapport des intensités intégrées entre l'intensité de pic de l'hydroxyde de nickel (ß-Ni(OH)2) dans une face (001) et son intensité de pic dans une face (100), provenant d'une diffraction des rayons X, est supérieur ou égal à 1,8. Le rapport des intensités intégrées entre l'intensité de pic dans la face (001) et l'intensité de pic dans la face (100) d'un mode classique est de l'ordre de 1,5. L'emploi du mode avec le rapport des intensités intégrées de celui-ci qui est supérieur ou égal à 1,8 permet une décharge continue à haut rendement même dans des régions de faible charge. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: WO2011JP66970 |