CONDUCTIVE MEMBER FOR ELECTRONIC PHOTOGRAPH, PROCESS CARTRIDGE, AND ELECTRONIC PHOTOGRAPH DEVICE
Disclosed is a conductive member that is for an electronic photograph and that contributes to the stable formation of a high-quality electronic photograph image and has an electrical resistance that is difficult to raise even by means of long-term electrification. The conductive member for an electr...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
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19.01.2012
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Summary: | Disclosed is a conductive member that is for an electronic photograph and that contributes to the stable formation of a high-quality electronic photograph image and has an electrical resistance that is difficult to raise even by means of long-term electrification. The conductive member for an electronic photograph has a conductive shaft cores and a conduction layer, and is characterized by: said conduction layer containing an A-B-A block copolymer; in said A-B-A block copolymer, the A block being a polystyrene having a positive ion substituent group and the B block being a polyolefin; said A-B-A block copolymer forming a microphase separation structure; and said microphase separation structure having a matrix phase comprising said B block and a phase comprising said A block and having a cylinder structure, a co-continuous structure, or a lamellar structure.
L'invention porte sur un élément conducteur qui est destiné à une photographie électronique et qui contribue à la formation stable d'une image par photographie électronique de haute qualité et qui a une résistance électrique qui est difficile à élever même au moyen d'une électrisation de longue durée. L'élément conducteur pour une photographie électronique comprend une âme d'arbre conducteur et une couche de conduction, et il est caractérisé en ce que : ladite couche de conduction contient un copolymère à blocs A-B-A ; dans ledit copolymère à blocs A-B-A, le bloc A est un polystyrène ayant un groupe substituant à ions positifs et le bloc B est une polyoléfine ; ledit copolymère à blocs A-B-A forme une structure à séparation de microphases ; et ladite structure à séparation de microphases a une phase de matrice comprenant ledit bloc B et une phase comprenant ledit bloc A et a une structure cylindrique, une structure co-continue, ou une structure lamellaire. |
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Bibliography: | Application Number: WO2011JP03595 |