DECELERATION LENS

A system and method are disclosed for controlling an ion beam. A deceleration lens (7000) is disclosed for use in an ion implanter. The lens may include a suppression electrode (102), first and second focus electrodes, and first and second shields. The shields may be positioned between upper and low...

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Main Authors KOO, BON, WOONG, DANIELS, KEVIN, M, VERRIER, KEVIN, R, WHITE, RICHARD, M, RADOVANOV, SVETLANA, SCHALLER, JASON, M, HERMANSON, ERIC, D, BLANCHETTE, JAMES, W
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 05.01.2012
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Summary:A system and method are disclosed for controlling an ion beam. A deceleration lens (7000) is disclosed for use in an ion implanter. The lens may include a suppression electrode (102), first and second focus electrodes, and first and second shields. The shields may be positioned between upper and lower portions of the suppression electrode. The first and second shields are positioned between the first focus electrode and an end station of the ion implanter. Thus positioned, the first and second shields protect support surfaces of said first and second focus electrodes from deposition of back- streaming particles generated from said ion beam. In some embodiments, the first and second focus electrodes may be adjustable to enable the electrode surfaces to be adjusted with respect to a direction of the ion beam. By adjusting the angle of the focus electrodes, parallelism of the ion beam can be controlled. Other embodiments are described and claimed. La présente invention concerne un système et un procédé de commande d'un faisceau d'ions. La présente invention concerne en particulier une lentille de décélération (7000) qui est employée dans un implanteur d'ions. La lentille peut comporter une électrode de suppression (102), des première et seconde électrodes de focalisation, et des premier et second écrans. Les écrans peuvent être positionnés entre des parties supérieure et inférieure de l'électrode de suppression. Les premier et second écrans sont positionnés entre la première électrode de focalisation et une station finale de l'implanteur d'ions. Positionnés de cette manière, les premier et second écrans protègent des surfaces porteuses desdites première et seconde électrodes de focalisation contre un dépôt de particules refoulées générées par ledit faisceau d'ions. Dans certains modes de réalisation, les première et seconde électrodes de focalisation peuvent être réglées de sorte que leurs surfaces puissent être ajustées par rapport à une direction du faisceau d'ions. L'ajustage de l'angle des électrodes de focalisation permet de contrôler le parallélisme du faisceau d'ions. La présente invention concerne en outre d'autres modes de réalisation.
Bibliography:Application Number: WO2011US42025