MULTIPLE FREQUENCY POWER FOR PLASMA CHAMBER ELECTRODE

First through fifth RF power signals are respectively coupled to first through fifth RF connection points on an electrode of a plasma chamber. The first, second and third RF power signals have distinct first, second and third frequencies, respectively. The second and fourth RF power signals have the...

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Main Authors TANAKA, TSUTOMU, KUDELA, JOZEF, HAMMOND, EDWARD, P., IV, BOITNOTT, CHRISTOPHER
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 15.12.2011
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Summary:First through fifth RF power signals are respectively coupled to first through fifth RF connection points on an electrode of a plasma chamber. The first, second and third RF power signals have distinct first, second and third frequencies, respectively. The second and fourth RF power signals have the same frequency and opposite phase. The third and fifth RF power signals have the same frequency and opposite phase. The second through fifth RF connection points are geometrically arranged as four successive vertices of a quadrilateral convex polygon. The first RF connection point is closer to the center of the electrode. The center strong spatial distribution of the electric field produced by the first RF power signal is offset by the center weak spatial distribution of the electric field produced by the second through fifth RF power signals. An alternative embodiment omits the third and fifth RF power signals and the third and fifth RF connection points. Selon la présente invention, des premier à cinquième signaux de puissance RF sont respectivement couplés à des premier à cinquième points de connexion RF sur une électrode d'une chambre à plasma. Les premier, deuxième et troisième signaux de puissance RF ont des première, deuxième et troisième fréquences distinctes, respectivement. Les deuxième et quatrième signaux de puissance RF ont la même fréquence et une phase opposée. Les troisième et cinquième signaux de puissance RF ont la même fréquence et une phase opposée. Les deuxième à cinquième points de connexion RF sont agencés géométriquement sous la forme de quatre sommets successifs d'un polygone convexe quadrilatère. Le premier point de connexion RF est plus proche du centre de l'électrode. La forte distribution spatiale centrale du champ électrique produit par le premier signal de puissance RF est décalée par la faible distribution spatiale centrale du champ électrique produit par les deuxième à cinquième signaux de puissance RF. Dans une variante du mode de réalisation de l'invention, les troisième et cinquième signaux de puissance RF et les troisième et cinquième points de connexion RF sont omis.
Bibliography:Application Number: WO2011US39689