CLEANING SOLUTION COMPOSITION FOR ELECTRONIC MATERIAL

The present invention relates to a cleaning solution composition comprising, in terms of the total weight of the composition, 0.05 to 20 wt % of a basic compound, 0.1 to 40 wt % of a water-soluble polar organic solvent, 0.01 to 10 wt % of an organophosphorous compound, 0.01 to 10 wt % of a polycarbo...

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Main Authors KIM, BYOUNG-MOOK, HONG, HUN-PYO, YOON, HYO-JOONG, BANG, SOON-HONG
Format Patent
LanguageEnglish
French
Korean
Published 19.04.2012
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Summary:The present invention relates to a cleaning solution composition comprising, in terms of the total weight of the composition, 0.05 to 20 wt % of a basic compound, 0.1 to 40 wt % of a water-soluble polar organic solvent, 0.01 to 10 wt % of an organophosphorous compound, 0.01 to 10 wt % of a polycarboxylic-acid-based copolymer, 0.001 to 10 wt % of an alkanolamine salt, 0.001 to 10 wt % of an azole-based compound, with the remainder being water. La présente invention concerne une composition de solution nettoyante comprenant, par rapport au poids total de la composition, 0,05 à 20 % en masse d'un composé basique, 0,1 à 40 % en masse d'un solvant organique polaire hydrosoluble, 0,01 à 10 % en masse d'un composé organophosphoré, 0,01 à 10 % en masse d'un copolymère à base d'acide polycarboxylique, 0,001 à 10 % en masse d'un sel d'alcanolamine, 0,001 à 10 % en masse d'un composé à base d'azole, et la quantité suffisante d'eau pour arriver à 100 %.
Bibliography:Application Number: WO2011KR03673