LAMINATE POLISHING PAD

• Main Author: KAZUNO,ATSUSHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 29.09.2011
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

Disclosed is a laminate polishing pad having a polishing layer and a cushion layer not prone to separating. The disclosed laminate polishing pad comprises a polishing layer, which does not having a transfixing region, and a cushion layer, which are laminated with an adhesion member interposed therebetween. On the back surface of the aforementioned polishing layer, at least one non-adhesive region X is provided which is continuous from the center area to the outer peripheral edge of the polishing layer; and/or, in the aforementioned adhesion member, at least one non-adhesive area Y is provided which is continuous from the center area to the outer peripheral edge of the adhesive member. La présente invention a trait à un tampon à polir pour stratifié doté d'une couche de polissage et d'une couche d'amortissement qui n'ont pas tendance à être séparées. Le tampon à polir pour stratifié selon la présente invention comprend une couche de polissage, qui ne comprend pas de zone de fixation, et une couche d'amortissement, qui sont stratifiées au moyen d'un élément d'adhérence intercalé entre ces dernières. Sur la surface arrière de ladite couche de polissage, au moins une zone non adhésive X est prévue et s'étend en continu depuis la zone centrale jusqu'au bord périphérique extérieur de la couche de polissage ; et/ou, dans ledit élément d'adhérence, au moins une zone non adhésive Y est prévue et s'étend en continu depuis la zone centrale jusqu'au bord périphérique extérieur de l'élément adhésif.