BLOCK POLYISOCYANATE COMPOSITION AND COATING COMPOSITION CONTAINING SAME

Provided is a block polyisocyanate composition comprising at least one block polyisocyanate represented by formula (I): R-(A)x(B)y. In formula (I), R is a residue obtained by removing an isocyanate group from a polyisocyanate composed of one or more polyisocyanates selected from aliphatic polyisocya...

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Main Authors SHINOMIYA KIE, YAMAUCHI MASAKAZU, MIYAZAKI TAKAYUKI, ITAMOCHI TAKAHIRO
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 11.08.2011
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Summary:Provided is a block polyisocyanate composition comprising at least one block polyisocyanate represented by formula (I): R-(A)x(B)y. In formula (I), R is a residue obtained by removing an isocyanate group from a polyisocyanate composed of one or more polyisocyanates selected from aliphatic polyisocyanates, alicyclic polyisocyanates, and aromatic polyisocyanates and is bonded to a substituent containing A and B; A is a group of one or more keto compounds represented by formula (II) or enol isomers thereof; B is one or more constituent units represented by formula (III); and the sum of x and y is from 2.0 to 20, and x is not 0. L'invention porte sur une composition de polyisocyanate séquencé comprenant au moins une séquence polyisocyanate représentée par la formule (I) : R-(A)x(B)y. Dans la formule (I), R représente un résidu obtenu par élimination d'un groupe isocyanate d'un polyisocyanate composé d'un ou plusieurs polyisocyanates choisis parmi les polyisocyanates aliphatiques, les polyisocyanates alicycliques et les polyisocyanates aromatiques et il est relié à un substituant contenant A et B; A représente un groupe d'un ou plusieurs composés cétones représentés par la formule (II) ou d'isomères énols de ceux-ci; B représente un ou plusieurs motifs constitutifs représentés par la formule (III); et la somme de x et y est de 2,0 à 20 et x ne vaut pas 0.
Bibliography:Application Number: WO2011JP52484