HIGH SENSITIVITY REAL TIME PROFILE CONTROL EDDY CURRENT MONITORING SYSTEM

• Main Authors: SWEDEK, BOGUSLAW A, XU, KUN, TU, WENIANG, WANG, YUCHUN, IRAVANI, HASSAN G
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 04.08.2011
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

An apparatus for chemical mechanical polishing includes a platen having a surface to support a polishing pad, and an eddy current monitoring system to generate an eddy current signal. The eddy current monitoring system includes a core and a coil wound around a portion of the core. The core includes a back portion, a first prong extending from the back portion in a first direction normal to the surface of the platen and having a width in a second direction parallel to the surface of the platen, and second and third prongs extending from the back portion in parallel with the first protrusion, the second and third prongs positioned on opposite sides of and equidistant from the first prong. A spacing between each of the second and third prongs and the first prong is approximately equal to twice the width of the first prong. L'invention porte sur un appareil pour un polissage chimico-mécanique et qui comprend une platine ayant une surface pour supporter un tampon de polissage et un système de surveillance de courants de Foucault pour générer un signal de courant de Foucault. Le système de surveillance de courants de Foucault comprend un noyau et une bobine enroulée autour d'une partie du noyau. Le noyau comprend une partie arrière, une première broche s'étendant à partir de la partie arrière dans une première direction normale à la surface de la platine et ayant une largeur dans une seconde direction parallèle à la surface de la platine, et des seconde et troisième broches s'étendant à partir de la partie arrière en parallèle avec la première saillie, les seconde et troisième broches étant positionnées sur des côtés opposés de la première broche et équidistantes de celle-ci. Un espacement entre chacune des seconde et troisième broches et la première broche est approximativement égal à deux fois la largeur de la première broche.