ARTIFICIAL MARBLE HAVING TRANSPARENT AMORPHOUS PATTERN

• Main Authors: KIM, DONG HEE, SON, CHANG HO, PARK, EUNG SEO
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 01.09.2011
• Subjects: AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G; CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS; DECORATIVE ARTS; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; METALLURGY; MOSAICS; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; PAPERHANGING; PERFORMING OPERATIONS; PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; TARSIA WORK; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; TRANSPORTING; WORKING-UP

Artificial marble having a transparent amorphous pattern of the present invention comprises a base material portion and a pattern portion, wherein the transparency of the pattern portion is excellent, the specific gravity of the pattern portion is 1.60 or more, and the pattern portion is formed by curing a resin composition comprising a binder selected from the group consisting of a halogenated urethane acrylate, a halogenated epoxy acrylate and a mixture thereof, and an acrylic polymerizable monomer. L'invention porte sur du marbre artificiel qui présente un motif amorphe transparent et qui comporte une partie matériau de base et une partie motif, la transparence de la partie motif étant excellente, le poids spécifique de la partie motif étant supérieur ou égal à 1,60 et la partie motif étant formée par durcissement d'une composition de résine comportant un liant choisi dans le groupe constitué par un acrylate d'uréthane halogéné, un époxy-acrylate halogéné et un mélange de ceux-ci, et un monomère acrylique polymérisable.